光学系统及光学设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721140222.9

申请日：

2017-09-07

公开(公告)号：

CN207636835U

公开(公告)日：

2018-07-20

发明(设计)人：

虞翔

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市坪山区坑梓街道深福保现代光学厂区A座

IPC主分类号：

G02B1304

IPC分类号：

G02B1306 G02B1318

代理机构：

北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371

代理人：

王宁宁

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-07-20	授权	授权
2021-08-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 13/04 申请日:20170907 授权公告日:20180720 终止日期:20200907

共 50 条

[1]

光学系统及光学设备 [P].

村谷真美 ;

松尾拓 ;

三轮哲史 ;

小松原阳子 ;

近藤晶乃 .

日本专利 :CN118112768A ,2024-05-31

[2]

光学系统及光学设备 [P].

仓茂孝道 .

日本专利 :CN114424105B ,2025-01-17

[3]

光学系统及光学设备 [P].

虞翔 .

中国专利 :CN107390351A ,2017-11-24

[4]

光学系统及光学设备 [P].

村谷真美 ;

松尾拓 ;

三轮哲史 ;

小松原阳子 ;

近藤晶乃 .

日本专利 :CN115244444B ,2024-04-05

[5]

光学系统、光学设备及光学系统的制造方法 [P].

仓茂孝道 .

中国专利 :CN114424105A ,2022-04-29

[6]

光学系统和光学设备 [P].

小滨昭彦 .

中国专利 :CN101377565A ,2009-03-04

[7]

光学系统、光学设备及光学系统的制造方法 [P].

稹田步 ;

渡士妙子 .

日本专利 :CN119213342A ,2024-12-27

[8]

光学系统、光学设备及光学系统的制造方法 [P].

薮本洋 ;

小野拓郎 .

日本专利 :CN119072645A ,2024-12-03

[9]

光学系统及光学设备、以及变倍光学系统及光学设备 [P].

山下雅史 ;

伊藤智希 ;

栗林知宪 ;

古井田启吾 ;

三轮哲史 ;

小松原阳子 ;

渡边胜也 ;

野中杏菜 ;

槙田步 .

日本专利 :CN114270238B ,2024-06-18

[10]

广角光学系统及光学设备 [P].

叶远华 ;

庄永盛 ;

庄建南 ;

朱其云 .

中国专利 :CN110221417B ,2024-06-18

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