曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510542373.6

申请日：

2010-08-24

公开(公告)号：

CN105182694A

公开(公告)日：

2015-12-23

发明(设计)人：

柴崎祐一

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

马景辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-05	授权	授权
2015-12-23	公开	公开
2016-01-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101643337761 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2015105423736 申请日:20100824

共 50 条

[1]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN105182695B ,2015-12-23

[2]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN102625924B ,2012-08-01

[3]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN105182693A ,2015-12-23

[4]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

白石健一 ;

藤原朋春 .

中国专利 :CN100555568C ,2008-04-16

[5]

曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法 [P].

依田安史 .

中国专利 :CN108919609A ,2018-11-30

[6]

曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 [P].

柴崎佑一 .

中国专利 :CN102636966B ,2012-08-15

[7]

曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法 [P].

依田安史 .

中国专利 :CN104919371B ,2015-09-16

[8]

曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN101675500A ,2010-03-17

[9]

曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P].

堀川浩人 .

中国专利 :CN100524616C ,2007-02-28

[10]

曝光装置、元件制造方法以及曝光方法 [P].

重松幸二 .

中国专利 :CN101379593A ,2009-03-04

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