研磨垫及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02130154.9

申请日：

2002-08-23

公开(公告)号：

CN100397582C

公开(公告)日：

2003-04-02

发明(设计)人：

日紫喜诚吾

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

B24B700 C08J900

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

王海川;樊卫民

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-10-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20020823 授权公告日:20080625 终止日期:20160823
2008-06-25	授权	授权
2004-07-07	实质审查的生效	实质审查的生效
2003-04-02	公开	公开

共 50 条

[1]

研磨半导体晶片的复合研磨垫及其制作方法 [P].

陈学忠 ;

蔡腾群 .

中国专利 :CN1400636A ,2003-03-05

[2]

研磨垫整理装置及利用其整理研磨垫的方法 [P].

洪永泰 .

中国专利 :CN1505109A ,2004-06-16

[3]

多孔性聚氨酯研磨垫及其制备方法 [P].

许惠暎 ;

徐章源 ;

尹钟旭 ;

尹晟勋 ;

其他发明人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN110385642B ,2019-10-29

[4]

研磨垫及其制造方法 [P].

下村哲生 ;

中森雅彦 ;

山田孝敏 ;

增井敬志 ;

驹井茂 ;

小野浩一 ;

小川一幸 ;

数野淳 ;

木村毅 ;

濑柳博 .

中国专利 :CN100551626C ,2008-02-27

[5]

研磨垫及其制造方法 [P].

下村哲生 ;

中森雅彦 ;

山田孝敏 ;

增井敬志 ;

驹井茂 ;

小野浩一 ;

小川一幸 ;

数野淳 ;

木村毅 ;

濑柳博 .

中国专利 :CN101130233A ,2008-02-27

[6]

研磨垫及其制造方法 [P].

下村哲生 ;

中森雅彦 ;

山田孝敏 ;

增井敬志 ;

驹井茂 ;

小野浩一 ;

小川一幸 ;

数野淳 ;

木村毅 ;

濑柳博 .

中国专利 :CN101143428A ,2008-03-19

[7]

研磨垫及其制造方法 [P].

下村哲生 ;

中森雅彦 ;

山田孝敏 ;

增井敬志 ;

驹井茂 ;

小野浩一 ;

小川一幸 ;

数野淳 ;

木村毅 ;

濑柳博 .

中国专利 :CN100569448C ,2008-02-27

[8]

研磨垫及其制造方法 [P].

下村哲生 ;

中森雅彦 ;

山田孝敏 ;

增井敬志 ;

驹井茂 ;

小野浩一 ;

小川一幸 ;

数野淳 ;

木村毅 ;

濑柳博 .

中国专利 :CN100592474C ,2005-02-23

[9]

研磨垫及其制造方法 [P].

下村哲生 ;

中森雅彦 ;

山田孝敏 ;

增井敬志 ;

驹井茂 ;

小野浩一 ;

小川一幸 ;

数野淳 ;

木村毅 ;

濑柳博 .

中国专利 :CN101148031B ,2008-03-26

[10]

研磨垫及其制造方法 [P].

下村哲生 ;

中森雅彦 ;

山田孝敏 ;

增井敬志 ;

驹井茂 ;

小野浩一 ;

小川一幸 ;

数野淳 ;

木村毅 ;

濑柳博 .

中国专利 :CN101148030B ,2008-03-26

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