偏转电极、液滴喷射头和液滴喷射设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110171583.0
申请日
2011-06-24
公开(公告)号
CN102294896A
公开(公告)日
2011-12-28
发明(设计)人
中窪亨
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
B41J204
IPC分类号
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
卜荣丽
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
液滴喷射头和液滴喷射装置 [P]. 
奥田真一 .
中国专利 :CN101204876B ,2008-06-25
[2]
液滴喷射头和液滴喷射装置 [P]. 
矶崎准 .
中国专利 :CN101190608B ,2008-06-04
[3]
液滴喷射装置和液滴喷射头 [P]. 
小岛正友 ;
关口恭裕 ;
小野胜司 .
中国专利 :CN101396916B ,2009-04-01
[4]
液滴喷射头以及液滴喷射装置 [P]. 
平井荣树 .
中国专利 :CN102069640A ,2011-05-25
[5]
液滴喷射单元和液滴喷射设备 [P]. 
中岛吉纪 ;
田中利之 ;
的场宏次 .
中国专利 :CN101326061B ,2010-06-16
[6]
液滴喷射头、液滴喷射装置和图像形成装置 [P]. 
瀬户信二 ;
宇佐美浩之 ;
村田道昭 .
中国专利 :CN101259789A ,2008-09-10
[7]
液滴喷射头、液滴喷射装置、压电元件和陶瓷 [P]. 
米村贵幸 .
中国专利 :CN101992596B ,2011-03-30
[8]
液滴喷射头 [P]. 
平井荣树 ;
矢崎士郎 ;
伊藤浩 .
中国专利 :CN103252995A ,2013-08-21
[9]
液滴喷射头 [P]. 
小泉洋 .
中国专利 :CN101396683A ,2009-04-01
[10]
液滴喷射设备 [P]. 
梅田隆一郎 .
中国专利 :CN101314283B ,2008-12-03