一种光刻胶树脂单体的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111647498.7

申请日：

2021-12-29

公开(公告)号：

CN114213246A

公开(公告)日：

2022-03-22

发明(设计)人：

傅志伟潘新刚余文卿陆伟邵严亮

申请人：

申请人地址：

221003 江苏省徐州市邳州市经济开发区化工聚集区

IPC主分类号：

C07C6708

IPC分类号：

C07C6758 C07C6752 C07C6954

代理机构：

上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313

代理人：

张东梅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-22	公开	公开
2022-04-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C07C 67/08 申请日:20211229

共 50 条

[1]

一种光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

余文卿 ;

薛富奎 ;

刘司飞 ;

李静 ;

邵严亮 .

中国专利 :CN114315571A ,2022-04-12

[2]

一种酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

余文卿 ;

薛富奎 ;

刘司飞 ;

邵严亮 .

中国专利 :CN114276242A ,2022-04-05

[3]

一种光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN118724684A ,2024-10-01

[4]

一种光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

吴信 ;

樊孝通 ;

纪兴跃 .

中国专利 :CN113880713A ,2022-01-04

[5]

一种含氟光刻胶树脂单体及其制备方法 [P].

傅志伟 ;

纪兴跃 ;

张傲祥 ;

任万鑫 ;

潘新刚 ;

余文卿 .

中国专利 :CN115947657B ,2025-05-27

[6]

一种含羟基结构光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

余文卿 ;

薛富奎 ;

刘司飞 ;

邵严亮 .

中国专利 :CN114292183A ,2022-04-08

[7]

一种含羟基结构光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

余文卿 ;

薛富奎 ;

刘司飞 ;

邵严亮 .

中国专利 :CN114292183B ,2024-06-25

[8]

一种酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

余文卿 ;

陆伟 ;

邵严亮 .

中国专利 :CN114315573A ,2022-04-12

[9]

一种含内酯结构的光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

余文卿 ;

李静 ;

邵严亮 .

中国专利 :CN114315766B ,2024-12-27

[10]

一种含内酯结构的光刻胶树脂单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

余文卿 ;

李静 ;

邵严亮 .

中国专利 :CN114315766A ,2022-04-12

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