一种基片均匀抛光装置及其工作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811151004.4

申请日：

2018-09-29

公开(公告)号：

CN109304664B

公开(公告)日：

2019-02-05

发明(设计)人：

朱祥龙康仁科董志刚李彧高尚郭江金洙吉

申请人：

申请人地址：

116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号

IPC主分类号：

B24B2902

IPC分类号：

B24B100 B24B4904 B24B4106 B24B5100 B24B4100

代理机构：

大连东方专利代理有限责任公司 21212

代理人：

李洪福;李馨

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-11	授权	授权
2019-03-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 29/02 申请日:20180929
2019-02-05	公开	公开

共 50 条

[1]

抛光装置及其工作方法 [P].

张伟 .

中国专利 :CN115946042B ,2024-05-03

[2]

一种抛光盘平面度可调整抛光装置及其工作方法 [P].

牛瑞坤 ;

王欢涛 ;

吴钟鸣 .

中国专利 :CN113618595A ,2021-11-09

[3]

基片的抛光方法及其抛光装置 [P].

久保亨 .

中国专利 :CN1187407A ,1998-07-15

[4]

一种工件抛光装置及其工作方法 [P].

黄叶明 ;

杨宏波 ;

邱洋 ;

孙成兵 ;

阚宏旭 .

中国专利 :CN111571384A ,2020-08-25

[5]

一种半导体基片的流体动压抛光装置及其抛光方法 [P].

路家斌 ;

梁华卓 ;

阎秋生 ;

陈润 .

中国专利 :CN105922124A ,2016-09-07

[6]

一种抛光设备及其工作方法 [P].

孟晓云 ;

周庆亚 ;

李久芳 ;

白琨 ;

贾若雨 ;

李嘉浪 .

中国专利 :CN115070605B ,2024-07-05

[7]

一种抛光设备及其工作方法 [P].

孟晓云 ;

周庆亚 ;

李久芳 ;

白琨 ;

贾若雨 ;

李嘉浪 .

中国专利 :CN115070605A ,2022-09-20

[8]

一种自动化抛光装置及其工作方法 [P].

金丽辉 ;

吕品 .

中国专利 :CN112975690B ,2021-06-18

[9]

一种柳编加工用抛光装置及其工作方法 [P].

马猛 ;

卢静静 ;

赵玲 .

中国专利 :CN111805399B ,2020-10-23

[10]

一种全自动平板抛光装置及其工作方法 [P].

刘志强 .

中国专利 :CN109719581B ,2019-05-07

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