一种酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法及其应用

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专利类型
发明
申请号
CN201910065208.4
申请日
2019-01-23
公开(公告)号
CN109876782A
公开(公告)日
2019-06-14
发明(设计)人
朱桂芬 王利芳 李宛宛 程国浩 逯通 陈乐田 樊静
申请人
申请人地址
453007 河南省新乡市牧野区建设东路46号
IPC主分类号
B01J2026
IPC分类号
B01J2030 B01J20285 C08F22238 C08F22606 C08F22058 C08J926 B01D1508
代理机构
新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 41139
代理人
路宽
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
酒石酸泰乐菌素表面分子印迹聚合物的水相制备方法及其应用 [P]. 
朱桂芬 ;
王利芳 ;
逯通 ;
李宛宛 ;
程国浩 ;
王培云 ;
陈乐田 ;
王艺聪 ;
樊静 .
中国专利 :CN109021171B ,2018-12-18
[2]
一种以ZIF-67为载体在水相中制备双氯芬酸钠表面分子印迹聚合物的方法 [P]. 
朱桂芬 ;
李宛宛 ;
汪瑾 ;
刘佳丽 ;
张春源 ;
上官钰 ;
蒿佳怡 ;
樊静 .
中国专利 :CN110498887B ,2019-11-26
[3]
一种替考拉宁-改性硅胶表面分子印迹聚合物及其水相制备方法和应用 [P]. 
贺利民 ;
周豪 ;
刘戎 ;
彭侃霖 ;
陈倩倩 .
中国专利 :CN112552470A ,2021-03-26
[4]
一种亲水性分子印迹聚合物的绿色制备方法 [P]. 
戴江栋 ;
赵春艳 ;
潘建明 ;
邹永立 ;
周志平 ;
闫永胜 .
中国专利 :CN103304723A ,2013-09-18
[5]
一种低共熔溶剂型印迹聚合物的水相制备方法及其应用 [P]. 
朱桂芬 ;
程国浩 ;
刘民 ;
王力 ;
赵开心 .
中国专利 :CN115368511A ,2022-11-22
[6]
一种低共熔溶剂型印迹聚合物的水相制备方法及其应用 [P]. 
朱桂芬 ;
程国浩 ;
刘民 ;
王力 ;
赵开心 .
中国专利 :CN115368511B ,2024-01-26
[7]
一种硫二甘醇分子印迹聚合物及其制备方法和应用 [P]. 
甄淑君 ;
叶启超 ;
詹蕾 .
中国专利 :CN111961153B ,2020-11-20
[8]
一种水相应用的表面分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
王艳 ;
冯雪雪 ;
孙磊 ;
乌铁蕾 ;
钟世安 .
中国专利 :CN107090059A ,2017-08-25
[9]
青霉素钠表面分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
傅强 ;
周会艳 ;
杜玮 ;
郑鹏磊 ;
王薇薇 ;
常春 .
中国专利 :CN103626937B ,2014-03-12
[10]
一种青霉素G钠表面分子印迹聚合物的制备方法及其应用 [P]. 
刘宏程 ;
沈报春 ;
杨倩 .
中国专利 :CN105384872A ,2016-03-09