一种辉光放电等离子体表面处理方法及装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910814668.2
申请日
2019-08-30
公开(公告)号
CN110468580B
公开(公告)日
2019-11-19
发明(设计)人
刘文正 赵潞翔
申请人
申请人地址
408100 重庆市涪陵区新城区鹤凤大道19号2幢
IPC主分类号
D06M1000
IPC分类号
代理机构
重庆百润洪知识产权代理有限公司 50219
代理人
姚琼斯
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种基于空气辉光放电等离子体的材料表面处理装置 [P]. 
赵潞翔 ;
刘文正 ;
徐旻 ;
黄烨 ;
郑擎天 .
中国专利 :CN110402007B ,2019-11-01
[2]
一种辉光放电等离子体生成装置 [P]. 
刘文正 ;
马传龙 ;
李治一 ;
赵潞翔 .
中国专利 :CN106954332A ,2017-07-14
[3]
辉光放电等离子体水处理方法及装置 [P]. 
刘文正 ;
李传辉 .
中国专利 :CN103754994A ,2014-04-30
[4]
等离子体表面处理方法及设备 [P]. 
佐伯登 .
中国专利 :CN1311717C ,2005-07-13
[5]
一种等离子体表面处理装置 [P]. 
沈晓辉 ;
李爱丽 ;
沈晓莹 ;
李龙龙 .
中国专利 :CN213426549U ,2021-06-11
[6]
等离子体表面处理方法及装置 [P]. 
吴海英 .
中国专利 :CN102560439A ,2012-07-11
[7]
一种表面介质阻挡放电等离子体材料处理装置 [P]. 
底兰波 ;
张秀玲 ;
李壮 ;
段栋之 .
中国专利 :CN206674287U ,2017-11-24
[8]
接触辉光放电等离子体发生装置 [P]. 
高锦章 ;
李岩 ;
蒲陆梅 ;
杨武 ;
俞洁 ;
黄冬玲 .
中国专利 :CN1642383A ,2005-07-20
[9]
大气压下大间隙均匀介质阻挡放电等离子体表面处理装置 [P]. 
潘云翔 ;
刘鹏 ;
彭行翠 .
中国专利 :CN110708851A ,2020-01-17
[10]
辉光放电等离子体发生装置及离子风空气净化器 [P]. 
刘文正 ;
牛江奇 ;
赵帅 .
中国专利 :CN107426910A ,2017-12-01