用于制备光敏有机电子器件的溶剂体系

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780066467.8

申请日：

2017-09-21

公开(公告)号：

CN109891614A

公开(公告)日：

2019-06-14

发明(设计)人：

G·博沃 N·雅可比-格罗斯

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L5100

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

王海宁

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-06-14	公开	公开
2019-10-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 51/00 申请日:20170921

共 50 条

[1]

用于制备光敏有机电子器件的溶剂体系 [P].

G·博沃 ;

N·雅可比-格罗斯 .

日本专利 :CN109891614B ,2024-04-30

[2]

用于制备光敏有机电子器件的溶剂体系 [P].

G·博沃 ;

N·雅各比-格罗斯 .

中国专利 :CN110462864A ,2019-11-15

[3]

用于制备光敏有机电子器件的溶剂体系 [P].

G·博沃 ;

N·雅各比-格罗斯 .

日本专利 :CN110462864B ,2024-03-15

[4]

制备有机电子器件的方法、有机电子器件和包含该有机电子器件的装置 [P].

奥利弗·朗古特 ;

托比亚斯·坎茨勒 .

中国专利 :CN110140228B ,2019-08-16

[5]

有机电子器件 [P].

G·怀廷 ;

E·史密斯 .

中国专利 :CN101595576B ,2009-12-02

[6]

有机电子器件和用于有机电子器件的特定材料 [P].

埃米尔·侯赛因·帕勒姆 ;

塞巴斯汀·施托尔茨 ;

乔纳斯·瓦伦丁·克罗巴 ;

克里斯蒂安·艾克霍夫 .

德国专利 :CN120323113A ,2025-07-15

[7]

用于制备有机电子器件的组合物、有机电子器件及应用 [P].

潘君友 ;

谭甲辉 ;

杨曦 .

中国专利 :CN111868050A ,2020-10-30

[8]

包含有机半导体层的有机电子器件 [P].

沃洛季米尔·森科维斯基 ;

雷吉娜·卢舍蒂尼特兹 ;

本杰明·舒尔策 ;

卡斯滕·洛特 .

中国专利 :CN110869353A ,2020-03-06

[9]

用于制备有机半导体层和有机电子器件的方法 [P].

斯特芬·伦格 ;

卡斯滕·罗特 ;

朱莉恩·弗雷 ;

乌韦·戈尔弗特 .

中国专利 :CN109643759A ,2019-04-16

[10]

有机电子器件 [P].

萨沙·多罗克 ;

卡斯滕·罗特 ;

欧姆莱恩·法德尔 ;

弗朗索瓦·卡尔迪纳利 .

中国专利 :CN104115296A ,2014-10-22

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