一种具有(220)高择优取向的Ni-SiC复合镀层的制备装置及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010024213.3

申请日：

2020-01-10

公开(公告)号：

CN111118582B

公开(公告)日：

2020-05-08

发明(设计)人：

纪仁杰金辉刘永红董天聪郑超赵莅龙张凡马驰蔡宝平李小朋

申请人：

申请人地址：

266580 山东省青岛市黄岛区长江西路66号

IPC主分类号：

C25D1500

IPC分类号：

C25D508 C25D2106 C25D312 C25D1700 C25D1712

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-08	公开	公开
2022-04-12	授权	授权
2020-06-02	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 15/00 申请日:20200110

共 50 条

[1]

制备中空件内壁Ni-SiC复合镀层的阳极装置 [P].

谢发勤 ;

吴向清 ;

李浪 ;

周颖 ;

田进 ;

武刚 ;

宋佳蕾 .

中国专利 :CN111593381B ,2020-08-28

[2]

中空工件内表面制备Ni-SiC复合镀层的装置 [P].

谢发勤 ;

周颖 ;

吴向清 .

中国专利 :CN106637362B ,2017-05-10

[3]

铝合金表面Ni-SiC复合镀层的制备方法及其电镀液 [P].

谢发勤 ;

李扬迪 ;

吴向清 ;

周颖 .

中国专利 :CN105506526A ,2016-04-20

[4]

一种铝合金表面脉冲电沉积Ni-SiC复合镀层的方法 [P].

王启伟 ;

朱胜 ;

李卫 ;

李庆阳 ;

阳颖飞 ;

张鹏 ;

王永喆 ;

曾大海 ;

李双建 .

中国专利 :CN111607816A ,2020-09-01

[5]

一种铝合金表面恒压电沉积Ni-SiC复合镀层的方法 [P].

李伟华 ;

杨洋 ;

应杰 .

中国专利 :CN113061890A ,2021-07-02

[6]

Ni-P-(Ni/SiC)p复合镀层制备的工艺方法 [P].

宿辉 .

中国专利 :CN101532129A ,2009-09-16

[7]

一种高磷Ni－P－SiC复合镀层及其制备工艺 [P].

张树生 ;

程林 ;

韩克江 .

中国专利 :CN101050525A ,2007-10-10

[8]

一种电沉积Ni-P-SiC复合镀层的方法 [P].

王启伟 ;

李卫 ;

朱胜 ;

李庆阳 ;

陈德馨 ;

张鹏 .

中国专利 :CN111560633A ,2020-08-21

[9]

一种电沉积制备Al-SiC复合镀层的方法 [P].

阚洪敏 ;

吴江 ;

齐麟新 ;

王晓阳 .

中国专利 :CN119287484A ,2025-01-10

[10]

一种高取向层状结构复合薄膜的制备方法 [P].

冯跃战 ;

程洪利 ;

鲁智力 ;

刘淙奇 ;

周兵 ;

韩高杰 ;

刘春太 .

中国专利 :CN119427797A ,2025-02-14

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