等离子处理装置以及等离子处理方法

被引：0

申请号：

CN202180005324.2

申请日：

2021-03-25

公开(公告)号：

CN115398603A

公开(公告)日：

2022-11-25

发明(设计)人：

田中优贵一野贵雅中谷信太郎荣岛隆介

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

H01L21683

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴秋明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20210325
2022-11-25	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 .

日本专利 :CN113826189B ,2024-03-22

[2]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN113826189A ,2021-12-21

[3]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

冈本翔 ;

臼井建人 ;

松井都 ;

中元茂 ;

川本尚裕 ;

关口笃史 .

中国专利 :CN114080662A ,2022-02-22

[4]

等离子处理方法以及等离子处理装置 [P].

田中庆一 .

中国专利 :CN110277296A ,2019-09-24

[5]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

堀川恭兵 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN112655069A ,2021-04-13

[6]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

冈本翔 ;

臼井建人 ;

松井都 ;

中元茂 ;

川本尚裕 ;

关口笃史 .

日本专利 :CN114080662B ,2025-11-14

[7]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

弘中嘉之 .

中国专利 :CN110648889B ,2020-01-03

[8]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

一野贵雅 ;

近藤勇树 .

日本专利 :CN119905448A ,2025-04-29

[9]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

臼井建人 ;

广田侯然 ;

井上智己 ;

中元茂 ;

福地功祐 .

中国专利 :CN110767581A ,2020-02-07

[10]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

江藤宗一郎 ;

冈本翔 ;

中元茂 ;

臼井建人 .

中国专利 :CN115349164A ,2022-11-15

← 1 2 3 4 5 →