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粒子束照射装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010993810.7
申请日
:
2020-09-21
公开(公告)号
:
CN112635278A
公开(公告)日
:
2021-04-09
发明(设计)人
:
麻生拓笃
满欣
佐藤诚
麻畑达也
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3722
IPC分类号
:
H01J37244
H01J3728
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
黄志坚;崔成哲
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-04-09
公开
公开
2022-06-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/22 申请日:20200921
共 50 条
[1]
粒子束照射装置
[P].
麻生拓笃
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
麻生拓笃
;
满欣
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
满欣
;
佐藤诚
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
佐藤诚
;
麻畑达也
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
麻畑达也
.
日本专利
:CN112635278B
,2025-05-09
[2]
粒子束照射装置
[P].
吴巍
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
吴巍
;
朱思华
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
朱思华
;
肖明明
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
肖明明
;
董瑞学
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
董瑞学
;
杜衡
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
杜衡
;
张满洲
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
张满洲
;
陈志凌
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
陈志凌
.
中国专利
:CN121197699A
,2025-12-26
[3]
粒子束照射装置
[P].
橘正则
论文数:
0
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0
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0
橘正则
;
井上淳一
论文数:
0
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0
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0
井上淳一
;
原章文
论文数:
0
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0
原章文
.
中国专利
:CN103974745B
,2014-08-06
[4]
带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序
[P].
桔正则
论文数:
0
引用数:
0
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0
桔正则
.
中国专利
:CN102380171A
,2012-03-21
[5]
粒子束流照射装置及粒子束流照射装置的控制方法
[P].
塙胜词
论文数:
0
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0
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0
塙胜词
;
井关康
论文数:
0
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0
井关康
;
角谷畅一
论文数:
0
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角谷畅一
;
古川卓司
论文数:
0
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古川卓司
;
稻庭拓
论文数:
0
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0
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0
稻庭拓
;
佐藤真二
论文数:
0
引用数:
0
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0
佐藤真二
;
野田耕司
论文数:
0
引用数:
0
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0
野田耕司
.
中国专利
:CN102883777B
,2013-01-16
[6]
带电粒子束照射装置
[P].
小笠原毅
论文数:
0
引用数:
0
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0
小笠原毅
.
中国专利
:CN103563007A
,2014-02-05
[7]
带电粒子束照射装置
[P].
佐佐井健蔵
论文数:
0
引用数:
0
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0
佐佐井健蔵
.
中国专利
:CN113470863A
,2021-10-01
[8]
带电粒子束照射装置
[P].
本田泰三
论文数:
0
引用数:
0
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0
本田泰三
;
原田久
论文数:
0
引用数:
0
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0
原田久
;
蒲越虎
论文数:
0
引用数:
0
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0
蒲越虎
.
中国专利
:CN102015022A
,2011-04-13
[9]
带电粒子束照射装置
[P].
橘正则
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
橘正则
.
中国专利
:CN105579099B
,2016-05-11
[10]
带电粒子束照射装置
[P].
佐佐井健蔵
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
住友重机械工业株式会社
住友重机械工业株式会社
佐佐井健蔵
.
日本专利
:CN113470863B
,2025-07-25
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