双重曝光制作高均匀度栅极线条的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310432385.4

申请日：

2013-09-22

公开(公告)号：

CN103488058B

公开(公告)日：

2014-01-01

发明(设计)人：

毛智彪

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区高科技园区高斯路568号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

陆花

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-01-01	公开	公开
2014-02-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101567144258 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013104323854 申请日:20130922

共 50 条

[1]

双重曝光制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103400756A ,2013-11-20

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双重曝光制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103400757A ,2013-11-20

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双重曝光制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103400758A ,2013-11-20

[4]

双重曝光制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103400753B ,2013-11-20

[5]

双重曝光制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103400755A ,2013-11-20

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双重曝光制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103400754A ,2013-11-20

[7]

制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103489769B ,2014-01-01

[8]

制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103474338B ,2013-12-25

[9]

制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103500705A ,2014-01-08

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制作高均匀度栅极线条的方法 [P].

毛智彪 .

中国专利 :CN103474339A ,2013-12-25

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