糖醇修饰的有机聚硅氧烷化合物及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880009783.2

申请日：

2008-03-26

公开(公告)号：

CN101641396A

公开(公告)日：

2010-02-03

发明(设计)人：

林由浩阿部哲志

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C08G7714

IPC分类号：

C08G7706 C08G7738 C08G7746

代理机构：

北京泛诚知识产权代理有限公司

代理人：

文琦;陈波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-02-03	公开	公开
2010-05-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001463236 IPC(主分类):C08G 77/14 专利申请号:2008800097832 申请日:20080326
2012-08-22	授权	授权

共 50 条

[1]

有机聚硅氧烷化合物 [P].

西村一晟 ;

远藤晃洋 ;

伊藤崇则 .

日本专利 :CN120958064A ,2025-11-14

[2]

有机聚硅氧烷化合物、含有其的组合物及其固化物 [P].

铃木嵩之 .

日本专利 :CN120981494A ,2025-11-18

[3]

有机聚硅氧烷化合物的制造方法 [P].

神馆隆史 .

中国专利 :CN102834433A ,2012-12-19

[4]

有机聚硅氧烷化合物的制造方法 [P].

神馆隆史 ;

林藤克彦 ;

泷口整 .

中国专利 :CN102656211A ,2012-09-05

[5]

有机聚硅氧烷化合物的制造方法 [P].

神馆隆史 ;

林藤克彦 ;

泷口整 .

中国专利 :CN102656212A ,2012-09-05

[6]

聚硅氧烷化合物及其制备方法 [P].

冈村薰 .

日本专利 :CN118076651A ,2024-05-24

[7]

有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料 [P].

森谷浩幸 ;

小西将幸 ;

安部拓矢 .

日本专利 :CN121219345A ,2025-12-26

[8]

有机聚硅氧烷及其制备方法 [P].

C·赫尔齐希 ;

H·劳滕施拉格尔 .

中国专利 :CN101233172A ,2008-07-30

[9]

硅氧烷化合物及其制备方法 [P].

冈村薰 .

中国专利 :CN110914281A ,2020-03-24

[10]

硅氧烷化合物及其制备方法 [P].

冈村薰 .

中国专利 :CN110914282A ,2020-03-24

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