透明导电膜用保护膜形成组合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201480075526.4
申请日
2014-12-17
公开(公告)号
CN105980497A
公开(公告)日
2016-09-28
发明(设计)人
悴山高大 西村直也
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
C09D17904
IPC分类号
C08F244 C08L7904 C09D712 H01B514 H01L21312 H01L5150 H05B3322 H05B3328
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
王永红
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
保护膜形成用组合物 [P]. 
上林哲 .
日本专利 :CN118633059A ,2024-09-10
[2]
导电图案的保护膜用组合物、导电图案的保护膜、保护膜制造方法及透明导电成膜的制造方法 [P]. 
鸟羽正彦 ;
中泽惠理 ;
山木繁 .
中国专利 :CN109689812B ,2019-04-26
[3]
透明导电性膜用表面保护膜及使用该表面保护膜的透明导电性膜 [P]. 
客野真人 ;
铃木千惠 ;
冈本理惠 ;
林益史 .
中国专利 :CN106189893A ,2016-12-07
[4]
透明导电性膜用表面保护膜及使用该表面保护膜的透明导电性膜 [P]. 
客野真人 ;
铃木千惠 ;
冈本理惠 ;
林益史 .
中国专利 :CN106189892A ,2016-12-07
[5]
透明导电性膜用表面保护膜及使用该表面保护膜的透明导电性膜 [P]. 
客野真人 ;
铃木千惠 ;
冈本理惠 ;
林益史 .
中国专利 :CN105368335A ,2016-03-02
[6]
保护膜形成用组合物 [P]. 
桥本雄人 ;
德永光 ;
绪方裕斗 ;
大桥智也 ;
境田康志 ;
岸冈高广 .
中国专利 :CN109952631A ,2019-06-28
[7]
保护膜形成用组合物 [P]. 
上林哲 .
日本专利 :CN118922464A ,2024-11-08
[8]
保护膜形成用组合物 [P]. 
西田登喜雄 ;
木下和彦 .
中国专利 :CN118742856A ,2024-10-01
[9]
透明导电膜形成用组合物、透明导电膜形成用溶液以及透明导电膜的形成方法 [P]. 
三好孝 .
中国专利 :CN1306522C ,2004-02-18
[10]
保护膜形成用膜 [P]. 
高野健 ;
篠田智则 ;
吾妻佑一郎 .
中国专利 :CN104838490A ,2015-08-12