用于多晶硅生产中还原厂房的中央除尘系统

被引：0

申请号：

CN202220375246.7

申请日：

2022-02-23

公开(公告)号：

CN216935175U

公开(公告)日：

2022-07-12

发明(设计)人：

邹仁苏陈文吉丁建

申请人：

申请人地址：

832000 新疆维吾尔自治区石河子经济开发区化工新材料产业园纬六路16号

IPC主分类号：

B01D4624

IPC分类号：

B01D4672 B01D4674

代理机构：

北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348

代理人：

刘铁生;孟阿妮

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-12	授权	授权

共 50 条

[1]

用于多晶硅还原炉的还原尾气除尘系统及多晶硅生产装置 [P].

孙强 ;

万烨 ;

严大洲 .

中国专利 :CN204746589U ,2015-11-11

[2]

多晶硅还原系统 [P].

张金宝 ;

方仕林 ;

鲁瑞尧 ;

隋宝勋 .

中国专利 :CN208413865U ,2019-01-22

[3]

用于多晶硅生产的除尘装置 [P].

张旭 ;

杜春云 ;

崔鹏 ;

赵江 .

中国专利 :CN222855008U ,2025-05-13

[4]

用于多晶硅生产中的除尘系统和除尘方法 [P].

周迎春 ;

刘建海 ;

张彦军 ;

刘兴平 .

中国专利 :CN106276919B ,2017-01-04

[5]

多晶硅还原炉 [P].

唐涛 ;

胡伟 ;

刘小婷 ;

周游 ;

严慧澄 .

中国专利 :CN223592410U ,2025-11-25

[6]

多晶硅还原炉 [P].

柳爱军 .

中国专利 :CN223620152U ,2025-12-02

[7]

采用多晶硅还原系统生产多晶硅的方法及多晶硅还原系统 [P].

吕海花 ;

孙运德 ;

刘丹丹 ;

胡启红 ;

王倩 ;

陈媛 .

中国专利 :CN107352545A ,2017-11-17

[8]

用于多晶硅生产中树脂的处理系统 [P].

母亚平 ;

王世棋 ;

向春林 .

中国专利 :CN213085481U ,2021-04-30

[9]

多晶硅生产中的抽空系统 [P].

钟升勇 ;

洪浩 ;

阎冶智 ;

陈少华 .

中国专利 :CN201770488U ,2011-03-23

[10]

用于多晶硅还原炉的底盘组件和多晶硅还原炉 [P].

石何武 ;

汪绍芬 ;

严大洲 ;

石涛 ;

杨永亮 ;

姚心 .

中国专利 :CN205892762U ,2017-01-18

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