一种高效硅片打磨装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202121571957.3
申请日
2021-07-12
公开(公告)号
CN215881133U
公开(公告)日
2022-02-22
发明(设计)人
高如山
申请人
申请人地址
300000 天津市河东区大王庄七纬路83号(第二层B区第212房间)
IPC主分类号
B24B1922
IPC分类号
B24B4106 B24B4722 B24B5512
代理机构
天津展誉专利代理有限公司 12221
代理人
陈欣
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种端面高效打磨装置 [P]. 
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艾均知 ;
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[3]
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[5]
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[6]
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[10]
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