有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010295641.X

申请日：

2020-04-15

公开(公告)号：

CN111825533A

公开(公告)日：

2020-10-27

发明(设计)人：

郡大佑新井田惠介泽村昂志橘诚一郎渡边武荻原勤

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C07C3917

IPC分类号：

C07C23375 C07D207404 C07D20948 C07D40314 C08F2240 C08L10102 G03F711 G03F716 G03F726 G03F736 H01L2102 H01L21027

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

共 50 条

[1]

有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物 [P].

郡大佑 ;

新井田惠介 ;

泽村昂志 ;

渡边武 ;

橘诚一郎 ;

荻原勤 .

中国专利 :CN111825596A ,2020-10-27

[2]

有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物 [P].

郡大佑 ;

新井田惠介 ;

泽村昂志 ;

渡边武 ;

橘诚一郎 ;

荻原勤 .

日本专利 :CN111825596B ,2024-03-08

[3]

有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物 [P].

郡大佑 ;

泽村昂志 ;

佐藤裕典 .

中国专利 :CN114380849A ,2022-04-22

[4]

有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物 [P].

郡大佑 ;

泽村昂志 ;

佐藤裕典 .

日本专利 :CN114380849B ,2024-05-24

[5]

有机膜形成用材料、基板、有机膜形成方法、图案形成方法及有机膜形成用化合物 [P].

郡大佑 ;

泽村昂志 ;

新井田惠介 ;

橘诚一郎 .

日本专利 :CN113433796B ,2024-12-13

[6]

有机膜形成用材料、基板、有机膜形成方法、图案形成方法及有机膜形成用化合物 [P].

郡大佑 ;

泽村昂志 ;

新井田惠介 ;

橘诚一郎 .

中国专利 :CN113433796A ,2021-09-24

[7]

有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、及有机膜形成用化合物 [P].

郡大佑 ;

泽村昂志 .

日本专利 :CN114942568B ,2025-01-17

[8]

有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、及有机膜形成用化合物 [P].

郡大佑 ;

泽村昂志 .

中国专利 :CN114942568A ,2022-08-26

[9]

有机膜形成材料、有机膜形成方法、图案形成方法、以及化合物 [P].

中原贵佳 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 .

日本专利 :CN113341646B ,2024-12-13

[10]

有机膜形成材料、有机膜形成方法、图案形成方法、以及化合物 [P].

中原贵佳 ;

郡大佑 ;

美谷岛祐介 .

中国专利 :CN113341646A ,2021-09-03

← 1 2 3 4 5 →

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-27	公开	公开
2020-11-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C07C 39/17 申请日:20200415