相位差膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280004819.4

申请日：

2012-02-20

公开(公告)号：

CN103443668B

公开(公告)日：

2013-12-11

发明(设计)人：

椿幸树阿波茂树小林武史松山刚知川月喜弘

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

B29C4112 B29C7102 C08F22030 C08J518 G02F113363

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

杨宏军;王大方

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-11	公开	公开
2014-03-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101580930874 IPC(主分类):G02B 5/30 专利申请号:2012800048194 申请日:20120220
2016-01-20	授权	授权

共 50 条

[1]

相位差膜叠层体、相位差膜叠层体的制造方法以及相位差膜的制造方法 [P].

森田崇 ;

藤井康平 ;

木平智一 ;

山中俊介 ;

波多野拓 .

中国专利 :CN104169757B ,2014-11-26

[2]

液晶取向剂、相位差膜以及相位差膜的制造方法 [P].

王道海 ;

宫本佳和 .

中国专利 :CN104232107A ,2014-12-24

[3]

液晶取向剂、相位差膜及相位差膜的制造方法 [P].

王道海 ;

村主拓弥 .

中国专利 :CN103834415A ,2014-06-04

[4]

相位差膜及其制造方法 [P].

井上恭辅 .

中国专利 :CN114127594A ,2022-03-01

[5]

相位差膜及其制造方法 [P].

井上恭辅 .

中国专利 :CN114730039A ,2022-07-08

[6]

相位差膜及其制造方法 [P].

村上俊秀 .

中国专利 :CN108139529B ,2018-06-08

[7]

相位差膜及其制造方法 [P].

井上恭辅 .

日本专利 :CN114127594B ,2025-01-07

[8]

相位差膜及其制造方法 [P].

井上恭辅 .

日本专利 :CN114730039B ,2024-04-23

[9]

相位差膜及其制造方法 [P].

井上恭辅 .

中国专利 :CN114222936A ,2022-03-22

[10]

相位差膜 [P].

浅野英雄 ;

中昭夫 ;

丹羽宏和 ;

桑本知幸 ;

渡部弘康 ;

盐谷佳之 .

中国专利 :CN101389987B ,2009-03-18

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