光谱分析样品的制备模具

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821055549.0

申请日：

2018-07-03

公开(公告)号：

CN209055373U

公开(公告)日：

2019-07-02

发明(设计)人：

田龙田中青田政黄丽雅赵刚吕鹏展

申请人：

申请人地址：

473000 河南省南阳市西峡县产业集聚区五里桥镇慈梅寺村

IPC主分类号：

G01N128

IPC分类号：

B22C906

代理机构：

北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371

代理人：

赵志远

法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-02	授权	授权

共 50 条

[1]

样品的光谱分析 [P].

W·帕克 ;

P·V·威尔逊 ;

J·门德斯·洛佩斯 .

中国专利 :CN115552224A ,2022-12-30

[2]

一种制作光谱分析样品的模具 [P].

陈胜 ;

徐金华 ;

陈爽 ;

马鑫 ;

刘剑波 .

中国专利 :CN201965047U ,2011-09-07

[3]

光谱分析装置的样品固定装置和光谱分析装置 [P].

张鼎方 ;

邓其馨 ;

张廷贵 ;

刘秀彩 ;

蔡国华 ;

黄惠贞 ;

刘泽春 .

中国专利 :CN206353127U ,2017-07-25

[4]

光谱分析试块模具 [P].

孙袁 .

中国专利 :CN202715773U ,2013-02-06

[5]

窄条状合金样品直读光谱分析用模具 [P].

吴中军 .

中国专利 :CN202305387U ,2012-07-04

[6]

一种制备光谱分析样品用的制样模具 [P].

刘晓丽 .

中国专利 :CN203658121U ,2014-06-18

[7]

光谱分析装置、光谱分析系统和光谱分析方法 [P].

林田纯弥 ;

柿下容弓 ;

服部英春 ;

堀入纯 .

日本专利 :CN120112781A ,2025-06-06

[8]

光谱分析用池、光谱分析装置和光谱分析方法 [P].

上野楠夫 ;

村上达希 ;

箕轮大辉 .

日本专利 :CN121057932A ,2025-12-02

[9]

光谱分析 [P].

基思·理查森 ;

史蒂文·德里克·普林格尔 ;

茱莉亚·巴洛格 ;

佐尔坦·塔卡茨 .

中国专利 :CN112557491A ,2021-03-26

[10]

一种光谱分析用样品制备器 [P].

邵雅斌 ;

陈晨 ;

徐梓斌 ;

来娴静 ;

蔡晓鸥 .

中国专利 :CN216870141U ,2022-07-01

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