不均缺陷检查装置和方法及光掩模的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510127461.6

申请日：

2005-12-06

公开(公告)号：

CN100454511C

公开(公告)日：

2006-06-14

发明(设计)人：

田中淳一

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L2166

IPC分类号：

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

李辉

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-06-14	公开	公开
2015-01-21	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101596338286 IPC(主分类):H01L 21/66 专利号:ZL2005101274616 申请日:20051206 授权公告日:20090121 终止日期:20131206
2009-01-21	授权	授权
2006-08-09	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

波纹缺陷检查掩模、波纹缺陷检查装置及方法、以及光掩模的制造方法 [P].

村井诚 .

中国专利 :CN1702429A ,2005-11-30

[2]

光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法 [P].

张旺 ;

徐佳 ;

宋晓辉 .

中国专利 :CN118425043B ,2025-01-21

[3]

光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法 [P].

张旺 ;

徐佳 ;

宋晓辉 .

中国专利 :CN118425043A ,2024-08-02

[4]

波纹缺陷检查方法及装置、以及光掩模的制造方法 [P].

吉田辉昭 .

中国专利 :CN1721987B ,2006-01-18

[5]

灰调掩模缺陷检查方法及装置和光掩模缺陷检查方法及装置 [P].

中西胜彦 .

中国专利 :CN1216285C ,2003-03-12

[6]

图案缺陷检查装置、图案缺陷检查方法及光掩模的制造方法 [P].

山口升 .

中国专利 :CN101046624B ,2007-10-03

[7]

波纹缺陷检查方法和系统及光掩模的制造方法 [P].

吉田辉昭 .

中国专利 :CN1983023A ,2007-06-20

[8]

光掩模用的缺陷修正方法及装置、缺陷修正头、缺陷检查装置及光掩模制造方法 [P].

坂本有司 ;

河守将典 .

中国专利 :CN102043328A ,2011-05-04

[9]

灰调掩模的缺陷检查方法及缺陷检查装置 [P].

中山宪治 .

中国专利 :CN1401994A ,2003-03-12

[10]

光掩模检查方法、光掩模制造方法及光掩模检查装置 [P].

剑持大介 .

中国专利 :CN109307980A ,2019-02-05

← 1 2 3 4 5 →