一种用于离子液体电沉积的装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420650622.4

申请日：

2014-11-04

公开(公告)号：

CN204198870U

公开(公告)日：

2015-03-11

发明(设计)人：

张云陈波龙燕何娇

申请人：

申请人地址：

650093 云南省昆明市五华区学府路253号

IPC主分类号：

C25C700

IPC分类号：

C25D1700

代理机构：

代理人：

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25C 7/00 申请日:20141104 授权公告日:20150311 终止日期:20161104
2015-03-11	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于离子液体电沉积的装置 [P].

王悦 .

中国专利 :CN216808941U ,2022-06-24

[2]

一种用于离子液体电沉积的电解池 [P].

李垚 ;

杨庆鑫 ;

刘昕 ;

赵九蓬 .

中国专利 :CN202519342U ,2012-11-07

[3]

一种离子液体电沉积电镀装置 [P].

莫崧鹰 ;

邓茜 ;

邓志坚 .

中国专利 :CN208104574U ,2018-11-16

[4]

一种利用离子液体低温电沉积镓的方法 [P].

马梅彦 .

中国专利 :CN103031571A ,2013-04-10

[5]

一种利用离子液体电沉积制备多孔锗的方法 [P].

赵九蓬 ;

李孟愈 ;

李垚 ;

郝健 .

中国专利 :CN104752704B ,2015-07-01

[6]

一种离子液体电沉积电镀装置及其方法 [P].

莫崧鹰 ;

邓茜 ;

邓志坚 .

中国专利 :CN108301027A ,2018-07-20

[7]

一种离子液体电沉积金属钴的方法 [P].

杨培霞 ;

安茂忠 .

中国专利 :CN1884622A ,2006-12-27

[8]

离子液体电沉积金属单质的方法 [P].

安茂忠 ;

张杰 ;

姬姗姗 ;

连叶 ;

杨培霞 ;

张锦秋 .

中国专利 :CN104141151A ,2014-11-12

[9]

使用离子液体电沉积金属的方法 [P].

B·库兹马诺维茨 ;

C·J·G·斯特里恩 ;

C·E·巴特尔 ;

M·蔡特勒 ;

J·C·斯皮尔曼 .

中国专利 :CN101384752B ,2009-03-11

[10]

一种利用离子液体低温电沉积铁的方法 [P].

马梅彦 .

中国专利 :CN103046082A ,2013-04-17

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