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一种真空炉用支撑底座
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201921533182.3
申请日：
2019-09-16
公开(公告)号：
CN210860493U
公开(公告)日：
2020-06-26
发明(设计)人：
李强
申请人：
申请人地址：
336600 江西省新余市分宜县工业园区
IPC主分类号：
F16M1132
IPC分类号：
F16M1142
F27D100
代理机构：
北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588
代理人：
国红
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-06-26 | 授权 | 授权 |