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一种高折射率纳米氧化锆复合树脂及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110730534.X
申请日
:
2021-06-29
公开(公告)号
:
CN113429719A
公开(公告)日
:
2021-09-24
发明(设计)人
:
李明伟
申请人
:
申请人地址
:
518106 广东省深圳市光明区公明街道办上屯银朗工业区第四栋
IPC主分类号
:
C08L3308
IPC分类号
:
C08L6300
C08K904
C08K322
C08F2030
代理机构
:
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268
代理人
:
徐凯凯
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-15
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C08L 33/08 申请日:20210629
2021-09-24
公开
公开
共 50 条
[1]
一种高折射率纳米氧化锆复合树脂的制备方法及其应用
[P].
邓建东
论文数:
0
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邓建东
;
陈明源
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陈明源
.
中国专利
:CN113912792A
,2022-01-11
[2]
一种简易制备高折射率透明纳米氧化锆分散液的方法
[P].
刘鑫
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机构:
上海纳琳威科技股份有限公司
上海纳琳威科技股份有限公司
刘鑫
;
周奕杰
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机构:
上海纳琳威科技股份有限公司
上海纳琳威科技股份有限公司
周奕杰
;
杨天舒
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机构:
上海纳琳威科技股份有限公司
上海纳琳威科技股份有限公司
杨天舒
.
中国专利
:CN118619340A
,2024-09-10
[3]
一种简易制备高折射率透明纳米氧化锆分散液的方法
[P].
刘鑫
论文数:
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机构:
上海纳琳威科技股份有限公司
上海纳琳威科技股份有限公司
刘鑫
;
周奕杰
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机构:
上海纳琳威科技股份有限公司
上海纳琳威科技股份有限公司
周奕杰
;
杨天舒
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机构:
上海纳琳威科技股份有限公司
上海纳琳威科技股份有限公司
杨天舒
.
中国专利
:CN118619340B
,2025-10-14
[4]
一种纳米氧化锆改性树脂
[P].
谭孔德
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谭孔德
;
郭秀芳
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郭秀芳
;
金福臻
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金福臻
.
中国专利
:CN109825151A
,2019-05-31
[5]
高折射率硅树脂及其制备方法和应用
[P].
胥明
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胥明
;
王智
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王智
;
吴国强
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吴国强
.
中国专利
:CN102952271A
,2013-03-06
[6]
一种高折射率光敏树脂及其制备方法
[P].
岳刚
论文数:
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0
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0
岳刚
.
中国专利
:CN111944077B
,2020-11-17
[7]
一种高折射率硅树脂及其制备方法
[P].
朱德洪
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朱德洪
;
冒小峰
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冒小峰
;
刘金明
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刘金明
;
钱芬芬
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钱芬芬
;
蔡辉
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0
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0
蔡辉
.
中国专利
:CN102690416B
,2012-09-26
[8]
纳米氧化锆的制备方法及其制备的纳米氧化锆
[P].
刘晓钰
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刘晓钰
;
刘红星
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刘红星
;
谢在库
论文数:
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谢在库
;
乔明华
论文数:
0
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乔明华
.
中国专利
:CN107915255B
,2018-04-17
[9]
一种纳米氧化锆/环氧树脂复合材料及其制备方法
[P].
周大雨
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周大雨
;
马晓倩
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马晓倩
;
彭聪
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彭聪
;
杨旭
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杨旭
;
王静静
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王静静
;
孙纳纳
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0
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孙纳纳
;
武湛君
论文数:
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武湛君
.
中国专利
:CN108641288B
,2018-10-12
[10]
一种基于电场调控折射率的氧化锆溶胶、制备方法及其应用
[P].
鲍希希
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
鲍希希
;
孙爱华
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
孙爱华
;
储成义
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
储成义
;
樊勋业
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
樊勋业
;
王兵
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
王兵
;
郭建军
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
郭建军
;
程昱川
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
程昱川
;
潘再法
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
潘再法
.
中国专利
:CN119750642B
,2025-12-05
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