一种基于集群磁流变研磨效应的圆柱面高效研磨装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120157303.6

申请日：

2011-05-17

公开(公告)号：

CN202162633U

公开(公告)日：

2012-03-14

发明(设计)人：

阎秋生潘继生李忠荣黄升伟

申请人：

申请人地址：

511495 广东省广州市番禺区钟村镇谢村万宝番禺基地

IPC主分类号：

B24B100

IPC分类号：

代理机构：

广州粤高专利商标代理有限公司 44102

代理人：

林丽明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-03-14	授权	授权
2017-07-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101731961384 IPC(主分类):B24B 1/00 专利号:ZL2011201573036 申请日:20110517 授权公告日:20120314 终止日期:20160517

共 50 条

[1]

一种圆柱面高效精密研磨装置 [P].

潘继生 ;

阎秋生 ;

黄升伟 ;

李忠荣 .

中国专利 :CN202062300U ,2011-12-07

[2]

一种集群磁流变研磨抛光装置 [P].

张棋翔 ;

潘继生 ;

阎秋生 .

中国专利 :CN210549948U ,2020-05-19

[3]

磁流变效应平面研磨抛光装置 [P].

阎秋生 ;

高伟强 ;

路家斌 .

中国专利 :CN201026589Y ,2008-02-27

[4]

一种磁流变研磨装置 [P].

吕新宇 ;

巴翠兰 ;

江霞 ;

张进 ;

陈森军 .

中国专利 :CN216731207U ,2022-06-14

[5]

一种电触头大半径圆柱面研磨装置 [P].

岳海林 ;

黄华全 ;

刘瑜波 .

中国专利 :CN213380615U ,2021-06-08

[6]

一种电触头大半径圆柱面研磨装置 [P].

任英 .

中国专利 :CN217833202U ,2022-11-18

[7]

磁流变效应曲面研磨抛光装置 [P].

阎秋生 ;

高伟强 ;

路家斌 .

中国专利 :CN201026588Y ,2008-02-27

[8]

一种电芬顿集群磁流变复合研磨抛光装置 [P].

张棋翔 ;

潘继生 ;

邓家云 ;

阎秋生 .

中国专利 :CN211439242U ,2020-09-08

[9]

基于磁流变效应的研磨抛光方法及其抛光装置 [P].

阎秋生 ;

高伟强 ;

路家斌 .

中国专利 :CN100999061A ,2007-07-18

[10]

一种用于带圆柱面工件的研磨抛光治具 [P].

吴加富 .

中国专利 :CN204893686U ,2015-12-23

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