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高斯束深度偏移成像方法、装置、设备和存储介质
被引：0
申请号：
CN202010995631.7
申请日：
2020-09-21
公开(公告)号：
CN114428327A
公开(公告)日：
2022-05-03
发明(设计)人：
石秀林
申请人：
申请人地址：
100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号
IPC主分类号：
G01V136
IPC分类号：
代理机构：
北京聿宏知识产权代理有限公司 11372
代理人：
吴大建;陈敏
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-05-03 | 公开 | 公开 |
| 2022-05-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G01V 1/36 申请日:20200921 |