导电性膜的制造方法与制造装置及导电性膜

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专利类型
发明
申请号
CN201180017363.0
申请日
2011-03-28
公开(公告)号
CN102822829B
公开(公告)日
2012-12-12
发明(设计)人
涌井隆史 磴秀康 岛崎治
申请人
申请人地址
日本东京港区西麻布二丁目26番30号
IPC主分类号
G06F1750
IPC分类号
H01B514 H01B1300 H05K900
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
臧建明
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
电阻测量装置、膜制造装置以及导电性膜的制造方法 [P]. 
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[2]
电阻测量装置、膜制造装置以及导电性膜的制造方法 [P]. 
森光大树 .
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[3]
透明导电性压电膜的制造方法和制造装置 [P]. 
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米泽秀行 ;
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
导电性环带 [P]. 
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[8]
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[9]
导电膜的制造方法及制造装置以及导电膜 [P]. 
明日彻 .
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[10]
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