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一种高激光损伤阈值的中红外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910166180.3
申请日：
2019-03-06
公开(公告)号：
CN109811409A
公开(公告)日：
2019-05-28
发明(设计)人：
吴奇 刘贤
申请人：
申请人地址：
435000 湖北省黄石市磁湖路11号
IPC主分类号：
C30B2912
IPC分类号：
C30B714 C30B710 G02F1355
代理机构：
黄石市三益专利商标事务所 42109
代理人：
林晓珍
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2019-06-21 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 29/12 申请日:20190306
2021-01-05 授权 授权
2019-05-28 公开 公开
共 50 条
[1]
一种高激光损伤阈值的中红外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用 [P]. 
吴奇 ;
刘贤 .
中国专利 :CN111118600B ,2020-05-08
[2]
中红外非线性光学晶体材料及其制备方法和应用 [P]. 
吴奇 ;
刘贤 .
中国专利 :CN109706523A ,2019-05-03
[3]
一种红外非线性光学晶体材料及其制备方法 [P]. 
张刚 ;
李艳军 ;
刘涛 ;
陈兴国 ;
秦金贵 .
中国专利 :CN102560648B ,2012-07-11
[4]
一种高激光损伤阈值的红外非线性光学晶体及制备和应用 [P]. 
张建汉 ;
李奇勇 ;
林明穗 ;
林福星 .
中国专利 :CN112080802A ,2020-12-15
[5]
一种中红外非线性光学晶体材料RbIO2F2及其制备方法和应用 [P]. 
吴奇 ;
秦金贵 .
中国专利 :CN104611769B ,2015-05-13
[6]
一类红外非线性光学晶体材料及其制备方法和用途 [P]. 
吴立明 ;
林华 ;
陈玲 .
中国专利 :CN106835284A ,2017-06-13
[7]
一种非线性光学晶体及其制备方法和应用 [P]. 
吴奇 ;
刘贤 .
中国专利 :CN110284182A ,2019-09-27
[8]
一种中红外非线性光学晶体材料KBi4F13及其制备方法和应用 [P]. 
吴奇 ;
秦金贵 .
中国专利 :CN104962992A ,2015-10-07
[9]
一种红外非线性光学晶体及其制备方法和应用 [P]. 
黄富强 ;
王瑞琦 .
中国专利 :CN115704111A ,2023-02-17
[10]
红外非线性光学晶体及其制备方法和应用 [P]. 
戴志高 ;
谢林鹏 ;
李国岗 .
中国专利 :CN118422348A ,2024-08-02
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