带低反射膜的基体

被引：0

申请号：

CN202210122323.2

申请日：

2016-05-11

公开(公告)号：

CN114578461A

公开(公告)日：

2022-06-03

发明(设计)人：

藤井健辅

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G02B1115

IPC分类号：

B32B7023 G02B118 G02B502 G02B528

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

赵青

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-03	公开	公开
2022-06-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/115 申请日:20160511

共 50 条

[1]

带低反射膜的基体 [P].

藤井健辅 .

中国专利 :CN107615100A ,2018-01-19

[2]

带低反射膜的基体及其制造方法 [P].

藤井健辅 .

中国专利 :CN108072926A ,2018-05-25

[3]

带低反射膜的基体及其制造方法 [P].

藤井健辅 .

中国专利 :CN113391382B ,2021-09-14

[4]

低反射膜付き基体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016181983A1 ,2018-03-01

[5]

低反射膜付き基体[ja] [P].

日本专利 :JP6729565B2 ,2020-07-22

[6]

带低反射膜的物品的制造方法 [P].

大谷义美 ;

种田修二 .

中国专利 :CN103889591A ,2014-06-25

[7]

带低反射膜的物品的制造方法 [P].

大谷义美 ;

本谷敏 .

中国专利 :CN103842098A ,2014-06-04

[8]

低反射膜 [P].

于佩强 ;

顾豪栋 ;

吕敬波 ;

胡业新 .

中国专利 :CN118050831A ,2024-05-17

[9]

低反射膜 [P].

崔光辉 ;

李文馥 ;

徐正泰 ;

严相烈 .

中国专利 :CN101858994B ,2010-10-13

[10]

低反射膜 [P].

于佩强 ;

顾豪栋 ;

吕敬波 ;

胡业新 .

中国专利 :CN220961902U ,2024-05-14

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