铜离子浓度自动分析和控制系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201020225689.5

申请日：

2010-06-13

公开(公告)号：

CN201698237U

公开(公告)日：

2011-01-05

发明(设计)人：

周良全金元严宏

申请人：

申请人地址：

610000 四川省成都市青羊区宁夏街136号附1号

IPC主分类号：

G05D1113

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-08-08	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101307726565 IPC(主分类):G05D 11/13 专利号:ZL2010202256895 申请日:20100613 授权公告日:20110105 终止日期:20110613
2011-01-05	授权	授权

共 50 条

[1]

镀铜槽中铜离子浓度的自动控制方法和控制系统 [P].

金泰浩 ;

乐彬 .

中国专利 :CN113832529A ,2021-12-24

[2]

一种电解液铜离子浓度控制系统 [P].

张雷 ;

童哲 ;

代大顺 ;

王会军 ;

杨红光 .

中国专利 :CN113201771A ,2021-08-03

[3]

铜离子浓度监控系统 [P].

郑文锋 ;

许吉昌 ;

孙尚培 ;

许宏玮 .

中国专利 :CN211505316U ,2020-09-15

[4]

溶铜罐铜离子浓度自动控制装置 [P].

杨兵 ;

金荣涛 .

中国专利 :CN209997465U ,2020-01-31

[5]

自适应铜离子电解水处理控制系统 [P].

蒋文萍 ;

韩江雪 ;

闵军 ;

桑建 ;

刘永 .

中国专利 :CN108388122A ,2018-08-10

[6]

一种铜离子浓度控制装置 [P].

林章清 ;

王科 ;

黄叔房 ;

章晓冬 ;

刘江波 ;

童茂军 .

中国专利 :CN214694448U ,2021-11-12

[7]

一种电解铜箔工艺的铜离子浓度控制系统及其方法 [P].

刘诗涛 ;

赵建荣 ;

闫瑞刚 ;

邵海楠 ;

张红帅 ;

袁樱来 .

中国专利 :CN110241444A ,2019-09-17

[8]

一种铜槽铜离子浓度调节装置 [P].

廉梦楠 ;

侯怀亮 .

中国专利 :CN222809582U ,2025-04-29

[9]

一种集散控制系统和自动化控制系统 [P].

段磊 ;

于学禹 ;

温宜明 .

中国专利 :CN216434756U ,2022-05-03

[10]

磨浆浓度自动控制系统 [P].

李盘欣 ;

任素民 ;

黄亚男 ;

佟振亚 ;

刘谋虎 ;

李小宁 ;

项旭峰 ;

佟静 ;

贾庚伟 ;

胡西刚 ;

李丹阳 ;

赵琳琳 ;

彭丽 ;

史咏华 ;

臧莹莹 ;

吴永霞 ;

王培英 ;

赵海洋 .

中国专利 :CN218273154U ,2023-01-10

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