一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201320064809.1

申请日：

2013-01-31

公开(公告)号：

CN203096166U

公开(公告)日：

2013-07-31

发明(设计)人：

马利红曾永远李翀

申请人：

申请人地址：

310030 浙江省杭州市西湖区三墩镇西园六路3号

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C16455 C23C1626

代理机构：

北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384

代理人：

郑青松

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-02-17	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20130131 授权公告日:20130731
2013-07-31	授权	授权

共 50 条

[1]

一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备 [P].

王晨森 .

中国专利 :CN206052151U ,2017-03-29

[2]

一种连续制备二维纳米薄膜的化学气相沉积设备 [P].

徐明生 .

中国专利 :CN202558935U ,2012-11-28

[3]

一种连续制备二维纳米薄膜的化学气相沉积设备 [P].

徐明生 .

中国专利 :CN102634776A ,2012-08-15

[4]

化学气相沉积设备 [P].

龙梅丽 .

中国专利 :CN222795721U ,2025-04-25

[5]

化学气相沉积设备 [P].

李一成 ;

汪宇澄 .

中国专利 :CN202499905U ,2012-10-24

[6]

薄膜沉积炉管及化学气相沉积设备 [P].

张弢 ;

朱广东 ;

邱家梁 ;

郭梦龙 ;

童洪波 .

中国专利 :CN222313290U ,2025-01-07

[7]

一种化学气相沉积设备 [P].

李辰宇 ;

王慧慧 .

中国专利 :CN210974866U ,2020-07-10

[8]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[9]

一种HJT电池薄膜制备用化学气相沉积设备 [P].

崔日 .

中国专利 :CN222182427U ,2024-12-17

[10]

化学气相沉积设备 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202705462U ,2013-01-30

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