选择性催化还原喷射装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780006778.1

申请日：

2007-11-16

公开(公告)号：

CN101389836A

公开(公告)日：

2009-03-18

发明(设计)人：

R·黑贝尔 M·霍恩 U－P·施梅林

申请人：

申请人地址：

德国斯图加特

IPC主分类号：

F01N320

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所

代理人：

苏娟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-03-18	公开	公开
2010-03-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-09-21	授权	授权

共 50 条

[1]

选择性催化还原喷射系统 [P].

彭小飞 ;

许新 ;

曹文浩 .

中国专利 :CN204984554U ,2016-01-20

[2]

环形冷却式选择性催化还原喷射装置 [P].

柯建华 ;

杜康健 ;

庄才敖 ;

巴文辉 ;

舒洲 ;

彭述生 .

中国专利 :CN207363745U ,2018-05-15

[3]

选择性催化还原方法及选择性催化还原系统 [P].

蔡昊廷 ;

金泰完 ;

金英敏 ;

金井郞 ;

裵永圭 .

中国专利 :CN114466690A ,2022-05-10

[4]

选择性催化还原喷射系统及方法 [P].

彭小飞 ;

许新 ;

曹文浩 .

中国专利 :CN105156182A ,2015-12-16

[5]

选择性催化还原系统 [P].

李俊荣 ;

朴钟赫 ;

崔峻源 ;

刘昶埙 ;

林艺勋 .

中国专利 :CN110023605A ,2019-07-16

[6]

选择性催化还原系统 [P].

张春富 ;

张凯军 ;

任卫星 ;

张韩 ;

金涛 .

中国专利 :CN202926445U ,2013-05-08

[7]

选择性催化还原系统 [P].

李载文 ;

崔钟太 .

中国专利 :CN209430267U ,2019-09-24

[8]

选择性催化还原系统 [P].

安德斯·E·詹森 ;

安德斯·费驰·韦斯 ;

安德烈亚斯·阿比让·盖姆博格 ;

斯蒂恩·凯勒 ;

斯诺瑞·克罗·彼贺 .

中国专利 :CN102725051A ,2012-10-10

[9]

选择性催化还原系统 [P].

肖斌 .

中国专利 :CN105464762B ,2016-04-06

[10]

选择性催化还原系统 [P].

李俊荣 ;

朴钟赫 ;

崔峻源 ;

刘昶埙 ;

林艺勋 .

中国专利 :CN113250794A ,2021-08-13

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