一种具有双真空室的真空灭弧室结构

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201820960255.6

申请日：

2018-06-21

公开(公告)号：

CN208478231U

公开(公告)日：

2019-02-05

发明(设计)人：

张毅冉园园高春晖甘巍

申请人：

申请人地址：

550018 贵州省贵阳市乌当区新添大道北段272号

IPC主分类号：

H01H33664

IPC分类号：

代理机构：

北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362

代理人：

韩炜

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-05	授权	授权

共 50 条

[1]

一种具有双真空室的真空灭弧室结构 [P].

张毅 ;

冉园园 ;

高春晖 ;

甘巍 .

中国专利 :CN108565178B ,2024-04-09

[2]

一种具有双真空室的真空灭弧室结构 [P].

张毅 ;

冉园园 ;

高春晖 ;

甘巍 .

中国专利 :CN108565178A ,2018-09-21

[3]

真空灭弧室 [P].

王永法 .

中国专利 :CN202178206U ,2012-03-28

[4]

真空灭弧室 [P].

吴或龙 .

中国专利 :CN204577326U ,2015-08-19

[5]

真空灭弧室 [P].

何跃 ;

朱朝南 .

中国专利 :CN205159199U ,2016-04-13

[6]

真空灭弧室 [P].

张金伍 ;

吴志明 ;

徐一汉 .

中国专利 :CN202905586U ,2013-04-24

[7]

真空灭弧室 [P].

何跃 ;

朱朝南 ;

周瑶 ;

陈晓燕 .

中国专利 :CN210091975U ,2020-02-18

[8]

真空灭弧室 [P].

吴或龙 .

中国专利 :CN204577322U ,2015-08-19

[9]

真空灭弧室 [P].

荣华中 ;

许海桃 ;

吴键 .

中国专利 :CN203415486U ,2014-01-29

[10]

真空灭弧室 [P].

吴或龙 .

中国专利 :CN204577329U ,2015-08-19

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