一种电解沉积金属的方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00809139.0

申请日：

2000-06-16

公开(公告)号：

CN1460132A

公开(公告)日：

2003-12-03

发明(设计)人：

约翰·卡特摩尔戴维·贝利

申请人：

申请人地址：

澳大利亚昆士兰

IPC主分类号：

C25C112

IPC分类号：

C25C706 C25C708

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王彦斌

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-12-03	公开	公开
2005-11-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2004-02-11	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

电解沉积金属的方法和电解系统 [P].

V·涅闵恩 ;

H·维尔坦恩 .

中国专利 :CN102308029A ,2012-01-04

[2]

电解沉积金属的方法、电解系统以及阳极袋 [P].

K·希耶塔拉 ;

S·库尔基 ;

E·图帕 .

中国专利 :CN102076887B ,2011-05-25

[3]

用于生产金属的方法和电解沉积槽 [P].

O－J·希尔金 ;

S·朱尔斯鲁德 .

中国专利 :CN100451176C ,2004-04-28

[4]

电解沉积出金属层的方法和装置 [P].

R·舒马赫 ;

W·迈尔 ;

W·达姆斯 ;

R·施奈德 .

中国专利 :CN1138638A ,1996-12-25

[5]

电解沉积金属的设备 [P].

罗伯特·德·戴维特 ;

亚当·吉·贝 ;

蒂博·帕垃戴 .

中国专利 :CN1061248A ,1992-05-20

[6]

金属的电解沉积方法 [P].

克里斯特尔·万·维京加登 ;

马尔科·舍特勒 ;

马利斯·克莱因菲尔德 ;

约阿基姆·海尔 .

中国专利 :CN1740399A ,2006-03-01

[7]

用于在工件上电解沉积金属层的装置和方法 [P].

B.丁格韦特 ;

P.鲍姆格特尔 .

中国专利 :CN105189831A ,2015-12-23

[8]

用于金属电解沉积的电解槽 [P].

A·菲奥鲁奇 ;

A·卡尔德拉拉 ;

L·亚科佩蒂 ;

G·法尔塔 .

中国专利 :CN105074057B ,2015-11-18

[9]

金属多层的电解沉积方法 [P].

S·瓦里扎德 .

中国专利 :CN1376214A ,2002-10-23

[10]

一种底部进液循环高电流密度电解沉积金属的装置 [P].

林建平 ;

林建灶 ;

柳彦 ;

石文堂 .

中国专利 :CN203923411U ,2014-11-05

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