学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
一种高分子非硅离型膜印花设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201820912630.X
申请日
:
2018-06-07
公开(公告)号
:
CN208411143U
公开(公告)日
:
2019-01-22
发明(设计)人
:
顾明
申请人
:
申请人地址
:
214000 江苏省无锡市惠山经济开发区玉祁配套区(玉东村)
IPC主分类号
:
B41K304
IPC分类号
:
B41K356
B41K362
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-01-22
授权
授权
共 50 条
[1]
一种高分子非硅离型膜
[P].
李冬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李冬
;
殷攀攀
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
殷攀攀
.
中国专利
:CN206568654U
,2017-10-20
[2]
一种高分子非硅离型膜
[P].
赵思银
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
赵思银
.
中国专利
:CN212827275U
,2021-03-30
[3]
一种高分子非硅离型膜
[P].
曾思皆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
曾思皆
.
中国专利
:CN208306022U
,2019-01-01
[4]
一种高分子非硅离型膜裁切设备
[P].
张明尧
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张明尧
.
中国专利
:CN211729312U
,2020-10-23
[5]
一种新型高分子离型膜
[P].
王举
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王举
.
中国专利
:CN207359791U
,2018-05-15
[6]
一种高分子薄膜离型膜除尘装置
[P].
庄志新
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
庄志新
;
刘培炼
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘培炼
.
中国专利
:CN211134710U
,2020-07-31
[7]
一种高分子缓冲覆型离型膜
[P].
蔡高明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
蔡高明
;
杨桂林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨桂林
;
梁汉声
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
梁汉声
.
中国专利
:CN213564882U
,2021-06-29
[8]
一种高分子材料离型膜
[P].
蔡高明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
蔡高明
;
杨桂林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨桂林
;
梁汉声
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
梁汉声
.
中国专利
:CN213202909U
,2021-05-14
[9]
一种高分子材料覆型离型膜
[P].
蔡高明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
蔡高明
;
杨桂林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨桂林
.
中国专利
:CN213202908U
,2021-05-14
[10]
一种高分子薄膜离型膜除尘装置
[P].
刘莉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘莉
;
刘新忠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘新忠
.
中国专利
:CN209205846U
,2019-08-06
←
1
2
3
4
5
→