一种正性光刻胶组合物

被引：0

申请号：

CN202211201671.5

申请日：

2022-09-29

公开(公告)号：

CN115494696A

公开(公告)日：

2022-12-20

发明(设计)人：

吴世泰韩冬

申请人：

申请人地址：

300000 天津市武清区武清开发区畅源道国际企业社区A9号楼302室

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F7038

代理机构：

天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201

代理人：

陆艺

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-20	公开	公开
2023-01-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20220929
2023-01-31	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G03F 7/004 登记生效日:20230117 变更事项:申请人变更前权利人:天津汉匠科技发展有限公司变更后权利人:天津久日半导体材料有限公司变更事项:地址变更前权利人:300000 天津市武清区武清开发区畅源道国际企业社区A9号楼302室变更后权利人:300382 天津市西青区精武镇学府工业区学府西路1号东区D2号厂房一层

共 50 条

[1]

一种正性光刻胶组合物 [P].

吴世泰 ;

韩冬 .

中国专利 :CN115494696B ,2024-12-31

[2]

一种正性光刻胶剥离液组合物 [P].

李泰亨 ;

申阳 ;

高峰 ;

苗发虎 ;

白晓鹏 .

中国专利 :CN113820927B ,2024-08-13

[3]

一种正性光刻胶剥离液组合物 [P].

李泰亨 ;

申阳 ;

高峰 ;

苗发虎 ;

白晓鹏 .

中国专利 :CN113820927A ,2021-12-21

[4]

正性光刻胶 [P].

徐亮 ;

季昌彬 .

中国专利 :CN107728427A ,2018-02-23

[5]

一种正性光刻胶组合物 [P].

何卿 ;

胡凡华 ;

朴大然 ;

卢克军 ;

张宁 .

中国专利 :CN113946099A ,2022-01-18

[6]

一种正性光刻胶组合物 [P].

陈哲 ;

任鲁风 ;

殷金龙 .

中国专利 :CN105301907A ,2016-02-03

[7]

一种正性光刻胶组合物 [P].

何卿 ;

胡凡华 ;

朴大然 ;

卢克军 ;

张宁 .

中国专利 :CN113946099B ,2024-07-05

[8]

化学放大正性光刻胶组合物 [P].

安藤信雄 ;

藤裕介 ;

武元一树 .

中国专利 :CN101021683A ,2007-08-22

[9]

一种正性光刻胶组合物及其应用 [P].

霍建辉 ;

张兵 ;

向文胜 ;

赵建龙 ;

陆晓健 ;

袁会芳 ;

周浩杰 ;

李双庆 ;

董仲舒 .

中国专利 :CN121187074A ,2025-12-23

[10]

一种正性光刻胶组合物及其应用 [P].

祁实 ;

刘永祥 ;

韩红彦 ;

杨鹏 .

中国专利 :CN120447302A ,2025-08-08

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