阻隔膜形成装置、阻隔膜形成方法及阻隔膜被覆容器

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专利类型
发明
申请号
CN201210065267.X
申请日
2007-11-22
公开(公告)号
CN102605350A
公开(公告)日
2012-07-25
发明(设计)人
浅原裕司 山越英男 团野实 后藤征司 白仓昌 中谷正树 广谷喜与士
申请人
申请人地址
日本国爱知县
IPC主分类号
C23C1650
IPC分类号
B65D2514
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
张宏光
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
阻隔膜形成装置、阻隔膜形成方法及阻隔膜被覆容器 [P]. 
浅原裕司 ;
山越英男 ;
团野实 ;
后藤征司 ;
白仓昌 ;
中谷正树 ;
广谷喜与士 .
中国专利 :CN101636523B ,2010-01-27
[2]
阻隔膜 [P]. 
杰罗姆·拉里尤 ;
皮埃尔·法耶 .
中国专利 :CN110546301A ,2019-12-06
[3]
阻隔膜 [P]. 
华路 ;
彭辉 ;
朱伟健 .
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[4]
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J·C·斯帕格诺拉 ;
M·A·勒里格 ;
T·P·科伦 ;
A·K·纳赫蒂加尔 ;
J·K·施诺布里奇 ;
G·D·乔利 .
中国专利 :CN104768758B ,2015-07-08
[5]
氢阻隔剂、氢阻隔膜形成用组合物、氢阻隔膜、氢阻隔膜的制造方法、及电子元件 [P]. 
引田二郎 ;
染谷和也 ;
三隅浩一 ;
盐田大 .
日本专利 :CN110317174B ,2024-10-22
[6]
氢阻隔剂、氢阻隔膜形成用组合物、氢阻隔膜、氢阻隔膜的制造方法、及电子元件 [P]. 
引田二郎 ;
染谷和也 ;
三隅浩一 ;
盐田大 .
中国专利 :CN110317174A ,2019-10-11
[7]
气体阻隔膜及气体阻隔膜的制造方法 [P]. 
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[8]
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[9]
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[10]
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汪金铭 ;
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