转印膜及其制造方法和层积体及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180068290.8

申请日：

2011-12-22

公开(公告)号：

CN103384840B

公开(公告)日：

2013-11-06

发明(设计)人：

冈藤宏川合治沢野哲哉山泽英人

申请人：

申请人地址：

日本国东京都千代田区丸之内1丁目1番1号

IPC主分类号：

G02B1111

IPC分类号：

B32B702 B32B2730 C08F29006

代理机构：

上海市华诚律师事务所 31210

代理人：

刘香兰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-01	授权	授权
2017-09-12	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101759019926 IPC(主分类):G02B 1/111 专利号:ZL2011800682908 变更事项:专利权人变更前:三菱丽阳株式会社变更后:三菱化学株式会社变更事项:地址变更前:日本国东京都千代田区丸之内1丁目1番1号变更后:日本国东京都千代田区丸之内1丁目1番1号
2013-12-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101547933371 IPC(主分类):G02B 1/11 专利申请号:2011800682908 申请日:20111222
2013-11-06	公开	公开

共 50 条

[1]

含金属氧化物微粒膜、转印膜及其制造方法和层积体及其制造方法 [P].

冈藤宏 ;

川合治 ;

沢野哲哉 ;

山泽英人 .

中国专利 :CN103384839A ,2013-11-06

[2]

转印膜及其制造方法 [P].

押切孝仁 .

日本专利 :CN120813477A ,2025-10-17

[3]

层积体、光学元件和层积体的制造方法 [P].

日下哲 ;

中村浩一郎 ;

今井寿雄 ;

田中裕之 .

日本专利 :CN119620253A ,2025-03-14

[4]

转印膜、构件及其制造方法 [P].

G·容格曼 ;

H·米勒 ;

G·伊贝克威 .

中国专利 :CN114728538A ,2022-07-08

[5]

模内成形用转印膜及其制造方法 [P].

金内和彦 ;

中川英秋 ;

芝田岳永 ;

井上知之 .

中国专利 :CN105599476B ,2016-05-25

[6]

转印膜、层叠体及其制造方法及其用途 [P].

兼岩秀树 ;

豊冈健太郎 .

中国专利 :CN110716668A ,2020-01-21

[7]

由转印膜转印的板材及其制造方法 [P].

李帅潣 .

中国专利 :CN104210178B ,2014-12-17

[8]

转印滚轮制造方法和转印膜片制造方法 [P].

林刘恭 .

中国专利 :CN114488687A ,2022-05-13

[9]

转印膜以及转印膜的制造方法 [P].

金内和彦 ;

芝田岳永 ;

井上知之 .

中国专利 :CN106660387A ,2017-05-10

[10]

转印膜及转印膜的制造方法 [P].

林威宇 ;

魏百盛 .

中国专利 :CN102114737A ,2011-07-06

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