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还原剂混合装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201680062222.3
申请日
:
2016-03-22
公开(公告)号
:
CN108350782A
公开(公告)日
:
2018-07-31
发明(设计)人
:
郑锺和
梁在煜
申请人
:
申请人地址
:
韩国蔚山市
IPC主分类号
:
F01N320
IPC分类号
:
F01N328
F01N1308
代理机构
:
北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467
代理人
:
贺征华
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-09-24
授权
授权
2018-10-09
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):F01N 3/20 申请日:20160322
2018-07-31
公开
公开
共 50 条
[1]
通道式还原剂混合装置
[P].
Y·易
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Y·易
;
S·V·沙
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S·V·沙
;
I·阿奎尔
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I·阿奎尔
;
Y·T·布伊
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Y·T·布伊
;
A·尤亚勒
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A·尤亚勒
;
E·雷姆
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E·雷姆
;
A·C·罗德曼
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A·C·罗德曼
.
中国专利
:CN111206977A
,2020-05-29
[2]
通道式还原剂混合装置
[P].
Y·易
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机构:
卡特彼勒公司
卡特彼勒公司
Y·易
;
S·V·沙
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机构:
卡特彼勒公司
卡特彼勒公司
S·V·沙
;
I·阿奎尔
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机构:
卡特彼勒公司
卡特彼勒公司
I·阿奎尔
;
Y·T·布伊
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卡特彼勒公司
卡特彼勒公司
Y·T·布伊
;
A·尤亚勒
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卡特彼勒公司
卡特彼勒公司
A·尤亚勒
;
E·雷姆
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机构:
卡特彼勒公司
卡特彼勒公司
E·雷姆
;
A·C·罗德曼
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机构:
卡特彼勒公司
卡特彼勒公司
A·C·罗德曼
.
美国专利
:CN111206977B
,2024-12-13
[3]
还原剂供应装置
[P].
衣川真澄
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衣川真澄
;
矢羽田茂人
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矢羽田茂人
;
樽泽祐季
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樽泽祐季
;
真岛佑辅
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真岛佑辅
;
细田真央
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细田真央
.
中国专利
:CN105275550A
,2016-01-27
[4]
还原剂供应装置
[P].
衣川真澄
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衣川真澄
;
矢羽田茂人
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矢羽田茂人
;
樽泽祐季
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樽泽祐季
;
真岛佑辅
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真岛佑辅
;
细田真央
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细田真央
.
中国专利
:CN105275552A
,2016-01-27
[5]
还原剂混合器
[P].
兰迪·茨韦尔巴
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兰迪·茨韦尔巴
.
中国专利
:CN109844274B
,2019-06-04
[6]
SCR脱硝还原剂混合装置
[P].
郑妍
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郑妍
;
陈训强
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陈训强
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徐明磊
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徐明磊
;
王冬生
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王冬生
.
中国专利
:CN109433008A
,2019-03-08
[7]
用于还原剂制备的混合装置
[P].
T·内格尔
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T·内格尔
;
P·阿尔贝蒂
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P·阿尔贝蒂
.
中国专利
:CN104066498A
,2014-09-24
[8]
新型的脱硝还原剂直喷混合装置
[P].
蒋楠
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蒋楠
;
葛春亮
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葛春亮
;
厉雄峰
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厉雄峰
;
钟程鹏
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钟程鹏
;
陈乐
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陈乐
;
常星岚
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常星岚
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邓芙蓉
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邓芙蓉
;
张力
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张力
;
丁得龙
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丁得龙
.
中国专利
:CN212396386U
,2021-01-26
[9]
SCR脱硝还原剂混合装置
[P].
郑妍
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郑妍
;
陈训强
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陈训强
;
徐明磊
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徐明磊
;
王冬生
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王冬生
.
中国专利
:CN209378804U
,2019-09-13
[10]
还原剂
[P].
筱原雄贵
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机构:
出光兴产株式会社
出光兴产株式会社
筱原雄贵
;
薮上稔
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机构:
出光兴产株式会社
出光兴产株式会社
薮上稔
;
西林仁昭
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出光兴产株式会社
出光兴产株式会社
西林仁昭
;
荒芝和也
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机构:
出光兴产株式会社
出光兴产株式会社
荒芝和也
;
光本泰知
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出光兴产株式会社
出光兴产株式会社
光本泰知
;
兼贺量一
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机构:
出光兴产株式会社
出光兴产株式会社
兼贺量一
.
日本专利
:CN120882655A
,2025-10-31
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