一种半导体化学气相沉积支架

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201922028053.5

申请日：

2019-11-22

公开(公告)号：

CN210575892U

公开(公告)日：

2020-05-19

发明(设计)人：

吉学东

申请人：

申请人地址：

226360 江苏省南通市通州区平东工业园区西环路18号

IPC主分类号：

H01L21687

IPC分类号：

H01L2167 C23C16458

代理机构：

郑州芝麻知识产权代理事务所(普通合伙) 41173

代理人：

王越

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-19	授权	授权

共 50 条

[1]

一种半导体化学气相沉积支架 [P].

王宜 .

中国专利 :CN212864963U ,2021-04-02

[2]

一种半导体生产用化学气相沉积装置 [P].

梁亚 .

中国专利 :CN108588683A ,2018-09-28

[3]

一种半导体化学气相沉积CVD设备 [P].

刘俊明 ;

梁明敏 ;

赵杰 .

中国专利 :CN120866800A ,2025-10-31

[4]

一种用于半导体化学气相沉积的反应器 [P].

郭逃远 .

中国专利 :CN217479546U ,2022-09-23

[5]

一种半导体生产用等离子辅助化学气相沉积装置 [P].

王敏 ;

孙珏 ;

吴汉涛 .

中国专利 :CN214142532U ,2021-09-07

[6]

化学气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN222923231U ,2025-05-30

[7]

化学气相沉积设备 [P].

王树林 ;

李鹏飞 ;

袁运辉 ;

李阳阳 .

中国专利 :CN223674734U ,2025-12-16

[8]

化学气相沉积装置 [P].

胡广严 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN207331057U ,2018-05-08

[9]

一种化学气相沉积设备 [P].

陈飞 ;

张杰 ;

张奇 .

中国专利 :CN223646630U ,2025-12-09

[10]

集成式化学气相沉积系统、半导体集成设备 [P].

沈亦晨 ;

朱轩廷 .

中国专利 :CN221421279U ,2024-07-26

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