一种新型等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310607628.3

申请日：

2013-11-27

公开(公告)号：

CN103607836A

公开(公告)日：

2014-02-26

发明(设计)人：

沈文凯王红卫

申请人：

申请人地址：

215011 江苏省苏州市苏州高新技术产业开发区泰山路2号（博济科技园内）

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

代理机构：

苏州华博知识产权代理有限公司 32232

代理人：

孟宏伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-03-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101581022288 IPC(主分类):H05H 1/46 专利申请号:2013106076283 申请日:20131127
2014-02-26	公开	公开
2017-05-03	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101750640125 IPC(主分类):H05H 1/46 专利申请号:2013106076283 申请公布日:20140226

共 50 条

[1]

一种新型等离子体处理装置 [P].

沈文凯 ;

王红卫 .

中国专利 :CN203618208U ,2014-05-28

[2]

一种新型粉体等离子体处理装置 [P].

王红卫 ;

沈文凯 .

中国专利 :CN203617245U ,2014-05-28

[3]

一种新型粉体等离子体处理装置 [P].

王红卫 ;

沈文凯 .

中国专利 :CN103730319A ,2014-04-16

[4]

等离子体处理装置 [P].

杨志军 .

中国专利 :CN204361048U ,2015-05-27

[5]

等离子体处理装置 [P].

杨志军 .

中国专利 :CN105990080A ,2016-10-05

[6]

一种等离子体处理装置 [P].

杨金全 ;

王正友 ;

段蛟 .

中国专利 :CN212750803U ,2021-03-19

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

田才忠 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101347051B ,2009-01-14

[8]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

冈山信幸 ;

松本直树 .

中国专利 :CN102217044A ,2011-10-12

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

日本专利 :CN112786425B ,2024-09-20

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN112786425A ,2021-05-11

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