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热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110879482.2
申请日
:
2021-08-02
公开(公告)号
:
CN113430350A
公开(公告)日
:
2021-09-24
发明(设计)人
:
罗意
申请人
:
申请人地址
:
224100 江苏省盐城市大丰市经济开发区南翔西路333号
IPC主分类号
:
C21D900
IPC分类号
:
C21D1773
代理机构
:
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463
代理人
:
王雪莎
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-15
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C21D 9/00 申请日:20210802
2021-09-24
公开
公开
共 50 条
[1]
热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉
[P].
罗意
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
罗意
.
中国专利
:CN215668114U
,2022-01-28
[2]
热处理用立式炉下盖结构及立式真空炉
[P].
罗意
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏石川岛丰东真空技术有限公司
江苏石川岛丰东真空技术有限公司
罗意
.
中国专利
:CN113430350B
,2024-12-06
[3]
立式真空炉
[P].
曲绍芬
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
沈阳恒进真空科技有限公司
沈阳恒进真空科技有限公司
曲绍芬
;
杨建川
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
沈阳恒进真空科技有限公司
沈阳恒进真空科技有限公司
杨建川
;
高光伟
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
沈阳恒进真空科技有限公司
沈阳恒进真空科技有限公司
高光伟
;
吴楠
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
沈阳恒进真空科技有限公司
沈阳恒进真空科技有限公司
吴楠
;
白恩军
论文数:
0
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0
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0
机构:
沈阳恒进真空科技有限公司
沈阳恒进真空科技有限公司
白恩军
;
段文宽
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
沈阳恒进真空科技有限公司
沈阳恒进真空科技有限公司
段文宽
.
中国专利
:CN222912333U
,2025-05-27
[4]
立式真空炉
[P].
杨荣超
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0
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0
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0
杨荣超
;
朱永福
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0
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0
朱永福
;
杨俊
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0
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0
杨俊
.
中国专利
:CN218455362U
,2023-02-07
[5]
立式真空炉
[P].
严佐毅
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0
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0
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0
严佐毅
.
中国专利
:CN207095284U
,2018-03-13
[6]
立式真空炉
[P].
王辉
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0
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0
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0
王辉
.
中国专利
:CN208794964U
,2019-04-26
[7]
大型立式真空炉
[P].
王和平
论文数:
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0
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0
王和平
;
王颂
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0
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0
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0
王颂
.
中国专利
:CN202755025U
,2013-02-27
[8]
立式搅拌真空炉
[P].
赵湘生
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0
引用数:
0
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0
赵湘生
.
中国专利
:CN101672570B
,2010-03-17
[9]
立式搅拌真空炉
[P].
赵湘生
论文数:
0
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0
h-index:
0
赵湘生
.
中国专利
:CN201421251Y
,2010-03-10
[10]
一种立式真空炉
[P].
陈大林
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0
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0
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机构:
南京纳联数控技术有限公司
南京纳联数控技术有限公司
陈大林
;
王冲
论文数:
0
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0
机构:
南京纳联数控技术有限公司
南京纳联数控技术有限公司
王冲
.
中国专利
:CN119617869A
,2025-03-14
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