集成电路的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201010246669.0
申请日
2010-08-04
公开(公告)号
CN101996872A
公开(公告)日
2011-03-30
发明(设计)人
聂俊峰 蔡俊雄 邱远鸿 陶宏远
申请人
申请人地址
中国台湾新竹市
IPC主分类号
H01L21265
IPC分类号
H01L21336
代理机构
隆天国际知识产权代理有限公司 72003
代理人
姜燕;陈晨
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
集成电路结构与其形成方法 [P]. 
郑光茗 ;
余俊磊 ;
周建志 ;
蔡俊琳 .
中国专利 :CN102097476B ,2011-06-15
[2]
集成电路的形成方法 [P]. 
蔡俊雄 ;
苏建彰 ;
李宗鸿 ;
林大文 ;
黄文社 .
中国专利 :CN102130059B ,2011-07-20
[3]
集成电路结构的形成方法 [P]. 
黄宏麟 ;
萧景文 ;
许国经 ;
陈承先 .
中国专利 :CN101937853B ,2011-01-05
[4]
集成电路结构的形成方法 [P]. 
林杰峯 ;
叶震亚 ;
林志勇 .
中国专利 :CN110660737A ,2020-01-07
[5]
集成电路及其形成方法 [P]. 
陈奕寰 ;
陈奕升 ;
范富杰 ;
刘思贤 ;
林大为 ;
郑光茗 ;
周建志 .
中国专利 :CN109560081B ,2019-04-02
[6]
集成电路以及形成集成电路的方法 [P]. 
吕文祯 ;
谢明昌 ;
陈益民 .
中国专利 :CN111081638B ,2020-04-28
[7]
形成集成电路结构的方法 [P]. 
冯家馨 .
中国专利 :CN101593718B ,2009-12-02
[8]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
张惠林 ;
卢永诚 ;
章勋明 .
中国专利 :CN101465315A ,2009-06-24
[9]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
杨岱宜 ;
廖御杰 ;
吴佳典 ;
陈欣苹 ;
陈海清 ;
眭晓林 .
中国专利 :CN110957268A ,2020-04-03
[10]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
李宗霖 ;
叶致锴 ;
张长昀 ;
袁锋 .
中国专利 :CN102074582B ,2011-05-25