申请人地址:
200042上海市延平路123弄4幢8I室
法律状态
| 2006-08-23 |
实质审查的生效
| 实质审查的生效 |
| 2005-02-23 |
公开
| 公开 |
| 2008-12-10 |
发明专利申请公布后的视为撤回
| 发明专利申请公布后的视为撤回 |
共 50 条
[1]
一种高空抛物监视系统
[P].
中国专利 :CN217011037U ,2022-07-19 [5]
监视装置、工作系统、监视系统以及监视方法
[P].
山冈正英
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
发那科株式会社
发那科株式会社
山冈正英
.
日本专利 :CN120051735A ,2025-05-27 [6]
监视装置、监视系统和监视方法
[P].
西彻
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
发那科株式会社
发那科株式会社
西彻
.
日本专利 :CN111796554B ,2024-03-08