衬底抛光装置和抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410095441.0

申请日：

2004-12-20

公开(公告)号：

CN100481340C

公开(公告)日：

2005-09-21

发明(设计)人：

中尾秀高川端康充胜间田好文小泽直树佐佐木达也重田厚

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

B24B3704 B24B4900 B24B100

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

王英

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-22	授权	授权
2005-09-21	公开	公开
2014-02-19	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101571526769 IPC(主分类):H01L 21/304 专利号:ZL2004100954410 申请日:20041220 授权公告日:20090422 终止日期:20121220
2006-12-20	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

抛光衬底的方法和装置 [P].

福岛诚 ;

户川哲二 ;

齐藤真吾 ;

井上智视 .

中国专利 :CN111644976B ,2020-09-11

[2]

抛光衬底的方法和装置 [P].

福岛诚 ;

户川哲二 ;

齐藤真吾 ;

井上智视 .

中国专利 :CN105313002A ,2016-02-10

[3]

抛光衬底的方法和装置 [P].

福岛诚 ;

户川哲二 ;

齐藤真吾 ;

井上智视 .

中国专利 :CN102186627B ,2011-09-14

[4]

抛光衬底的方法和装置 [P].

福岛诚 ;

户川哲二 ;

齐藤真吾 ;

井上智视 .

中国专利 :CN108515447A ,2018-09-11

[5]

抛光装置和抛光方法 [P].

窪田壮男 ;

重田厚 ;

丰田现 ;

高桥圭瑞 ;

福冈大作 ;

伊藤贤也 .

中国专利 :CN100452312C ,2007-09-19

[6]

抛光设备、抛光方法和抛光装置 [P].

彭云龙 .

中国专利 :CN119328655A ,2025-01-21

[7]

抛光装置和抛光方法 [P].

张晓强 ;

孙元成 ;

杜秀蓉 ;

宋学富 ;

王慧 ;

钟利强 ;

花宁 .

中国专利 :CN108857588A ,2018-11-23

[8]

抛光头、抛光装置和抛光方法 [P].

申埈燮 ;

张月 ;

杨涛 ;

卢一泓 ;

刘青 .

中国专利 :CN115122230B ,2024-10-22

[9]

抛光方法和抛光装置 [P].

川崎修司 ;

松下彰孝 .

中国专利 :CN1184018A ,1998-06-10

[10]

抛光装置和抛光方法 [P].

佐佐木达也 ;

山田直史 ;

胜间田好文 ;

清水展 ;

津野成亮 ;

三谷隆 .

中国专利 :CN101612719B ,2009-12-30

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