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用于气相沉积的掩膜版及掩膜版组
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202023100833.5
申请日
:
2020-12-22
公开(公告)号
:
CN214300315U
公开(公告)日
:
2021-09-28
发明(设计)人
:
彭寿
马立云
殷新建
陈瑛
周显华
樊中军
申请人
:
申请人地址
:
200063 上海市普陀区中山北路2000号中期大厦27层
IPC主分类号
:
C23C1404
IPC分类号
:
C23C1424
C23C1454
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
贺妮妮
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-28
授权
授权
共 50 条
[1]
掩膜版及掩膜版组
[P].
陈宁
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陈宁
;
郭炜
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郭炜
;
王路
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王路
.
中国专利
:CN201974631U
,2011-09-14
[2]
掩膜版及掩膜版组
[P].
陈宁
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陈宁
;
郭炜
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郭炜
;
王路
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王路
.
中国专利
:CN201974632U
,2011-09-14
[3]
子掩膜版及掩膜版
[P].
谢飞
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谢飞
;
苏胜利
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苏胜利
;
张佳成
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张佳成
;
周俊吉
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周俊吉
.
中国专利
:CN207775334U
,2018-08-28
[4]
掩膜版及工具掩膜
[P].
吴建鹏
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吴建鹏
;
崔宏达
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崔宏达
.
中国专利
:CN217517015U
,2022-09-30
[5]
掩膜版
[P].
刘明星
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刘明星
;
王徐亮
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王徐亮
;
甘帅燕
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甘帅燕
;
高峰
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高峰
;
张玄
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张玄
.
中国专利
:CN208266254U
,2018-12-21
[6]
掩膜版
[P].
石晶晶
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石晶晶
;
褚福川
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褚福川
.
中国专利
:CN207799330U
,2018-08-31
[7]
掩膜版
[P].
不公告发明人
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不公告发明人
.
中国专利
:CN210072315U
,2020-02-14
[8]
掩膜版
[P].
李伟
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李伟
;
刘富军
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刘富军
;
朱杰
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朱杰
;
魏崇喜
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魏崇喜
.
中国专利
:CN202886836U
,2013-04-17
[9]
掩膜版
[P].
邱云
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邱云
;
林准焕
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林准焕
.
中国专利
:CN201867584U
,2011-06-15
[10]
掩膜版
[P].
金普楠
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金普楠
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中国专利
:CN203324647U
,2013-12-04
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