用于低辐射率涂层的钛镍铌合金阻挡层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680028471.0

申请日：

2016-03-15

公开(公告)号：

CN107645988A

公开(公告)日：

2018-01-30

发明(设计)人：

丁国文布伦特·博伊斯杰里米·程穆罕默德·伊姆兰劳靖宇李珉户丹尼尔·施魏格特志-文·文·孙王宇徐永利张贵珍

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

B32B1508

IPC分类号：

C23C1418

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

张英;沈敬亭

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-02	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):B32B 15/08 登记生效日:20200514 变更事项:申请人变更前权利人:分子间公司变更后权利人:佳殿工业公司变更事项:地址变更前权利人:美国加利福尼亚州变更后权利人:美国密歇根州变更事项:申请人变更前权利人:佳殿工业公司
2018-02-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B32B 15/08 申请日:20160315
2018-01-30	公开	公开
2020-06-02	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):B32B 15/08 登记生效日:20200514 变更事项:申请人变更前权利人:佳殿工业公司变更后权利人:佳殿玻璃有限公司变更事项:地址变更前权利人:美国密歇根州变更后权利人:美国密歇根州
2023-01-13	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B32B 15/08 申请公布日:20180130

共 38 条

[1]

用于低辐射涂层的钛镍铌合金阻挡层 [P].

G·丁 ;

B·博伊斯 ;

J·成 ;

M·伊姆兰 ;

J·劳 ;

M·H·乐 ;

D·施瓦格特 ;

Z-W·孙 ;

Y·王 ;

Y·许 ;

G·张 .

中国专利 :CN105431392A ,2016-03-23

[2]

用低辐射率涂层涂覆的基材 [P].

D.吉马尔 ;

J.斯克尔斯基 .

中国专利 :CN109790067A ,2019-05-21

[3]

用低辐射率涂层涂覆的基材 [P].

D.吉马尔 ;

J.斯科尔斯基 .

中国专利 :CN109790066A ,2019-05-21

[4]

低辐射率的透明多层体 [P].

村田健治 ;

堂下和宏 ;

中井日出海 .

中国专利 :CN1476379B ,2004-02-18

[5]

超低辐射率的银涂料 [P].

特里·J.·布朗 ;

大卫·M.·斯托卡 ;

威廉姆·G.·皮卡德 ;

乔治·E.·萨科斯克 .

中国专利 :CN101353230B ,2009-01-28

[6]

耐久的低辐射率窗膜构造 [P].

拉古纳特·帕迪亚斯 ;

格雷戈里·F·金 ;

斯蒂芬·P·梅基 .

中国专利 :CN110506091A ,2019-11-26

[7]

包含纳米线栅的低辐射率窗膜和涂层 [P].

威尔·麦卡锡 ;

保罗·齐赛克 ;

理查德·M·鲍尔斯 .

中国专利 :CN101868738A ,2010-10-20

[8]

包含介电层的低辐射率玻璃及其制备方法 [P].

田允淇 ;

裴一骏 .

中国专利 :CN102548923B ,2012-07-04

[9]

一种氟、铌掺杂低辐射率导电玻璃及其制备方法 [P].

唐少春 ;

陆洪彬 ;

张春玲 ;

唐伟 .

中国专利 :CN113480190A ,2021-10-08

[10]

耐久的高透光率低辐射率溅射薄膜制品 [P].

弗朗克·霍瓦德·吉尔勒里 ;

鲁塞尔·卡尔德威尔·克里斯 ;

詹姆斯·约瑟夫·芬利 .

中国专利 :CN1019319B ,1987-09-23

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