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等离子体发生装置和用于等离子体发生装置的控制方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910505821.3
申请日
:
2019-06-12
公开(公告)号
:
CN112087853A
公开(公告)日
:
2020-12-15
发明(设计)人
:
孙万付
王世强
刘全桢
唐诗雅
刘宝全
刘英杰
牟洪祥
关银霞
申请人
:
申请人地址
:
100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号
IPC主分类号
:
H05H124
IPC分类号
:
代理机构
:
北京润平知识产权代理有限公司 11283
代理人
:
肖冰滨;王晓晓
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-01-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/24 申请日:20190612
2020-12-15
公开
公开
共 50 条
[1]
用于等离子体发生器的控制装置、方法及等离子体发生装置
[P].
王世强
论文数:
0
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0
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王世强
;
刘全桢
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0
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刘全桢
;
王林
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王林
;
唐诗雅
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唐诗雅
;
刘宝全
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刘宝全
;
刘英杰
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0
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刘英杰
;
牟洪祥
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0
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牟洪祥
;
关银霞
论文数:
0
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0
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关银霞
.
中国专利
:CN112076595A
,2020-12-15
[2]
等离子体发生装置
[P].
叶燕峰
论文数:
0
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0
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叶燕峰
.
中国专利
:CN205041832U
,2016-02-24
[3]
等离子体发生装置和等离子体发生装置的用途
[P].
德克兰·安德鲁·迪韦尔
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德克兰·安德鲁·迪韦尔
;
休·波茨
论文数:
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休·波茨
.
中国专利
:CN102714912A
,2012-10-03
[4]
等离子体发生装置的线圈和等离子体发生装置
[P].
长江亦周
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机构:
株式会社新柯隆
株式会社新柯隆
长江亦周
;
青山贵昭
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机构:
株式会社新柯隆
株式会社新柯隆
青山贵昭
;
冈田胜久
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机构:
株式会社新柯隆
株式会社新柯隆
冈田胜久
;
渡边健
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机构:
株式会社新柯隆
株式会社新柯隆
渡边健
.
日本专利
:CN119012488A
,2024-11-22
[5]
微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法
[P].
中川清和
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机构:
株式会社阿比特技术
株式会社阿比特技术
中川清和
;
宇佐美由久
论文数:
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机构:
株式会社阿比特技术
株式会社阿比特技术
宇佐美由久
.
日本专利
:CN119586328A
,2025-03-07
[6]
具有位置控制的冷等离子体发生装置和冷等离子体发生阵列
[P].
凯尔·叶茨
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凯尔·叶茨
.
中国专利
:CN114788415A
,2022-07-22
[7]
等离子体发生器及等离子体发生方法
[P].
刘海
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机构:
上海大学
上海大学
刘海
;
付秀娥
论文数:
0
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机构:
上海大学
上海大学
付秀娥
.
中国专利
:CN120730600A
,2025-09-30
[8]
等离子体发生装置
[P].
李海涛
论文数:
0
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0
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李海涛
.
中国专利
:CN211860639U
,2020-11-03
[9]
等离子体发生装置
[P].
黄峰
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0
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黄峰
;
齐颢与
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齐颢与
;
刘鑫
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刘鑫
;
陈文卓
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0
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陈文卓
;
粱儒宁
论文数:
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粱儒宁
;
唐小江
论文数:
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0
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唐小江
.
中国专利
:CN114040558A
,2022-02-11
[10]
等离子体发生装置
[P].
金昌植
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机构:
机希艾斯株式会社
机希艾斯株式会社
金昌植
;
金泰用
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机构:
机希艾斯株式会社
机希艾斯株式会社
金泰用
;
金明佑
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机构:
机希艾斯株式会社
机希艾斯株式会社
金明佑
;
南宫赫
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机构:
机希艾斯株式会社
机希艾斯株式会社
南宫赫
;
李河润
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机构:
机希艾斯株式会社
机希艾斯株式会社
李河润
.
韩国专利
:CN117528891A
,2024-02-06
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