等离子体CVD用阴电极和等离子体CVD装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880127917.0

申请日：

2008-04-08

公开(公告)号：

CN101971292A

公开(公告)日：

2011-02-09

发明(设计)人：

铃木正康

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L21205

IPC分类号：

C23C16455 C23C16505 H01L2131 H01L3104

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

黄纶伟;吕俊刚

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-03-29	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/205 申请日:20080408 授权公告日:20120718 终止日期:20180408
2011-03-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101059703798 IPC(主分类):H01L 21/205 专利申请号:2008801279170 申请日:20080408
2011-02-09	公开	公开
2012-07-18	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体CVD装置和等离子体CVD法 [P].

小林忠正 ;

座间秀昭 .

中国专利 :CN111918982A ,2020-11-10

[2]

等离子体CVD装置及等离子体CVD方法 [P].

坂本桂太郎 ;

藤内俊平 ;

江尻广惠 ;

野村文保 .

中国专利 :CN105051252A ,2015-11-11

[3]

等离子体CVD装置、等离子体CVD方法及搅拌装置 [P].

本多祐二 ;

阿部孝之 .

中国专利 :CN101939466A ,2011-01-05

[4]

等离子体清洁方法和等离子体CVD方法 [P].

鸿野真之 ;

西田辰夫 ;

中西敏雄 .

中国专利 :CN101517713B ,2009-08-26

[5]

等离子体CVD装置 [P].

熊田辉彦 ;

保田直纪 ;

信时英治 ;

松本纪久 ;

松野繁 .

中国专利 :CN101044603A ,2007-09-26

[6]

等离子体CVD装置 [P].

高泽壮登 ;

妹尾智之 .

日本专利 :CN120513319A ,2025-08-19

[7]

等离子体CVD装置 [P].

玉垣浩 ;

冲本忠雄 .

中国专利 :CN103249865A ,2013-08-14

[8]

等离子体CVD装置 [P].

久野裕彦 ;

小泉雅史 .

中国专利 :CN106133190B ,2016-11-16

[9]

等离子体CVD装置 [P].

洪丽 ;

赵月 ;

公占飞 .

中国专利 :CN110804732A ,2020-02-18

[10]

等离子体CVD装置 [P].

前桥聪 .

中国专利 :CN1934288B ,2007-03-21

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