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包含直链α‑烯烃磺酸盐,阴离子表面活性剂和非离子和/或两性表面活性剂的化妆品组合物和化妆处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201580075947.1
申请日
:
2015-12-07
公开(公告)号
:
CN107205902A
公开(公告)日
:
2017-09-26
发明(设计)人
:
M-F.达拉斯
L.迪索
E.马托诺
G.普洛斯
申请人
:
申请人地址
:
法国巴黎
IPC主分类号
:
A61K844
IPC分类号
:
A61K846
A61Q502
A61Q1910
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
黄念
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-09-26
公开
公开
2017-10-27
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):A61K 8/44 申请日:20151207
共 50 条
[1]
包含直链烯烃磺酸盐,非氧化烯化阴离子表面活性剂和非离子和/或两性表面活性剂的化妆品组合物和化妆处理方法
[P].
M-F.达拉斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
M-F.达拉斯
;
L.迪索
论文数:
0
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0
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L.迪索
;
E.马托诺
论文数:
0
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0
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0
E.马托诺
;
G.普洛斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
G.普洛斯
.
中国专利
:CN107530243A
,2018-01-02
[2]
包含至少两种不同的阴离子表面活性剂、非离子和两性表面活性剂以及阳离子或两性聚合物的组合物
[P].
V·勒邵村
论文数:
0
引用数:
0
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0
V·勒邵村
;
S·麦卢格
论文数:
0
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0
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S·麦卢格
;
E·马松诺
论文数:
0
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0
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0
E·马松诺
.
中国专利
:CN112312882A
,2021-02-02
[3]
包含至少两种阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂和两性表面活性剂以及至少一种去头屑剂的组合物
[P].
E.马同诺
论文数:
0
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0
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0
E.马同诺
;
M-F.达拉斯
论文数:
0
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M-F.达拉斯
;
H.萨曼
论文数:
0
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H.萨曼
;
G.普洛斯
论文数:
0
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0
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0
G.普洛斯
.
中国专利
:CN110087627B
,2019-08-02
[4]
包含非离子和两性离子表面活性剂的组合物
[P].
M·乔齐亚克
论文数:
0
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0
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0
M·乔齐亚克
;
J·内斯塔
论文数:
0
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0
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0
J·内斯塔
.
中国专利
:CN101977586A
,2011-02-16
[5]
包含非离子和两性离子表面活性剂的组合物
[P].
M.乔齐亚克
论文数:
0
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0
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0
M.乔齐亚克
;
J.内斯塔
论文数:
0
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0
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0
J.内斯塔
.
中国专利
:CN104688563A
,2015-06-10
[6]
包含阴离子型表面活性剂、非离子型或两性型表面活性剂和固体脂肪醇的化妆品组合物以及化妆处理方法
[P].
E.马托诺
论文数:
0
引用数:
0
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0
E.马托诺
.
中国专利
:CN103619312A
,2014-03-05
[7]
包含阴离子、非离子和两性表面活性剂、至少两种有机硅烷和缔合阳离子聚合物的化妆品组合物、美容处理方法和用途
[P].
A·博纳祖兹
论文数:
0
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0
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A·博纳祖兹
;
L·费奈隆
论文数:
0
引用数:
0
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0
L·费奈隆
.
中国专利
:CN112312885A
,2021-02-02
[8]
包含阴离子、非离子和两性表面活性剂和阳离子缔合聚合物的组合物
[P].
V·勒绍村
论文数:
0
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0
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0
V·勒绍村
;
E·勒邦-希波利特
论文数:
0
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0
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E·勒邦-希波利特
;
S·麦卢格
论文数:
0
引用数:
0
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0
S·麦卢格
.
中国专利
:CN112384194A
,2021-02-19
[9]
阴离子表面活性剂
[P].
G.阿罕塞特
论文数:
0
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0
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0
G.阿罕塞特
;
S.龙
论文数:
0
引用数:
0
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0
S.龙
;
B.格拉迪
论文数:
0
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0
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B.格拉迪
;
J.哈维尔
论文数:
0
引用数:
0
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J.哈维尔
;
于光哲
论文数:
0
引用数:
0
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0
于光哲
.
中国专利
:CN108026489B
,2018-05-11
[10]
非离子表面活性剂
[P].
王文洋
论文数:
0
引用数:
0
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0
王文洋
.
中国专利
:CN1099671A
,1995-03-08
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